TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 d'occasion à vendre
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(2) Coater system, 8" Process: AL-CH, PIQ 1994 vintage.
166
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Produit populaire
TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system, 8" Silicon wafer Wafer flow: Right to left Single block Process s
152
Produit populaire
TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
Baking system, 8" Wafer flow: Right to left Silicon wafer Process-1: FC-9801 F NEC Controller Stage
135
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(1) Coater / (3) Developer system, 8" Process: i-Line develop unit Power transformer S2-93 Develope
194
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
System, 8" (2) Cores (3) Spinners 1996 vintage.
175
Produit populaire
TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(2) Coater system, 8" Wafer flow: Right to left Single block system TEL Clean Track Mark 7 Controlle
172
Produit populaire
TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
Resist coater / Developer system 1996 vintage.
162
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
Coater / Developers system, 6" System: Left to right for 8" wafer Indexer: 4 Cassette stage (Uni-Cas
184
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system, 8" Wafer flow: Right to left Single block.
49
Produit populaire
TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(2) Developer systems, 8" Wafer flow: Left to right Single block.
50
Produit populaire
TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(2) Developer systems, 8" Wafer flow: Right to left Single block.
51
Produit populaire
TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(3) Developer systems, 8" Wafer flow: Left to right Single block.
49
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(3) Developer systems, 8" Wafer flow: Right to left Single block.
45
Produit populaire
TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Wafer flow: Right to left Single block.
52
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(2) Coater / (2) Developer systems, 8" Wafer flow: Left to right IFB Single block.
51
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(3) Coater system, 8" PIQ / Polyimide coater Single block.
49
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Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system, 8" Single block Silicon wafer Wafer flow: Right to left Process s
174
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(5) Developer systems, 8" Dual blocks 2000 vintage.
169
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(5) Developer system, 8" Dual blocks 2001 vintage.
171
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(2) Coater system, 8" Blank / Reserve Single block.
175
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(3) Polyimide PIQ coater, 8" Single block.
193
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(3) Developer system, 8" Single block 2000-2001 vintage.
159
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(4) Developer system, 8" Single block 1999 vintage.
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
Coater / (2) Developer system, 8" Scrubber Single block Interface CANON Stepper Wafer flow: Left to
173
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
Coater / (2) Developer system, 8" Scrubber Interface CANON Stepper Wafer flow: Left to right Single
176
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(2) Coater / (3) Developer system, 8" Dual blocks Interface ASML Stepper Wafer flow: Right to left 1
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