TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 d'occasion à vendre
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Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system, 8" 1995 vintage.
298
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Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system Interface module Temperature and Humidity Controller (THC) Chemica
244
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Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system Interface module Temperature and Humidity Controller (THC) Chemica
191
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system, 8" Silicon wafer Wafer flow: Right to left Single block Process s
420
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Clean Track Mark 7
Baking system, 8" Wafer flow: Right to left Silicon wafer Process-1: FC-9801 F NEC Controller Stage
431
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Clean Track Mark 7
(1) Coater / (3) Developer system, 8" Process: i-Line develop unit Power transformer S2-93 Develope
507
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
System, 8" (2) Cores (3) Spinners 1996 vintage.
454
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Clean Track Mark 7
(2) Coater system, 8" Wafer flow: Right to left Single block system TEL Clean Track Mark 7 Controlle
532
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Clean Track Mark 7
Resist coater / Developer system 1996 vintage.
449
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
Coater / Developers system, 6" System: Left to right for 8" wafer Indexer: 4 Cassette stage (Uni-Cas
436
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system, 8" Wafer flow: Right to left Single block.
261
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Clean Track Mark 7
(2) Developer systems, 8" Wafer flow: Left to right Single block.
281
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Clean Track Mark 7
(2) Developer systems, 8" Wafer flow: Right to left Single block.
268
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(3) Developer systems, 8" Wafer flow: Left to right Single block.
320
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Clean Track Mark 7
(3) Developer systems, 8" Wafer flow: Right to left Single block.
256
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Clean Track Mark 7
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Wafer flow: Right to left Single block.
229
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Clean Track Mark 7
(2) Coater / (2) Developer systems, 8" Wafer flow: Left to right IFB Single block.
286
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(3) Coater system, 8" PIQ / Polyimide coater Single block.
327
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Clean Track Mark 7
(1) Coater / (2) Developer system, 8" Single block Silicon wafer Wafer flow: Right to left Process s
387
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(5) Developer systems, 8" Dual blocks 2000 vintage.
421
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Clean Track Mark 7
(5) Developer system, 8" Dual blocks 2001 vintage.
448
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Clean Track Mark 7
(2) Coater system, 8" Blank / Reserve Single block.
396
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Clean Track Mark 7
(3) Polyimide PIQ coater, 8" Single block.
409
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Clean Track Mark 7
(3) Developer system, 8" Single block 2000-2001 vintage.
386
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 7
(4) Developer system, 8" Single block 1999 vintage.
355
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Clean Track Mark 7
Coater / (2) Developer system, 8" Scrubber Single block Interface CANON Stepper Wafer flow: Left to
396
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