Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293632604 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293632604
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Silicon wafer
Wafer flow: Right to left
Single block
Process station (PSB): Process block robotic arm (PRA)
ADH
(4) LHP
(3) CPL
FC-9801 F Controller
Stage: Cassette stage
Indexer: Open CSB
CRA
2-1 COT unit:
Resist dispense nozzle with HV pump
Side rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Photoresist temperature controller
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
2-2 / 2-3 DEV unit:
Stream nozzle
Dual D.I top rinse nozzle
Dual back rinse nozzles
Motor flange temperature controller
Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispenser
Chemical supply system:
Solvent supply for COT unit
Develop solution supply for (2) DEV units
Power transformer
SHINWA THC Temperature and humidity controller
Hard Disk Drive (HDD) included
(2) Circular pumps missing
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est une technologie haut de gamme pour la photolithographie, utilisée dans la production de produits électroniques haut de gamme. Il est largement utilisé dans la fabrication de circuits intégrés à semi-conducteurs (IC) et de cartes de circuits imprimés (PCB). TEL Clean Track Mark 7 offre des fonctionnalités de pointe pour assurer une production propre et efficace des photomasques. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 offre des fonctionnalités avancées telles qu'un processus d'exposition multi-zones, multi-motifs et des revêtements antireflets. Cela rend les photomasques produits avec l'unité plus précis, prévisible et cohérent. La machine utilise également une technologie de « super champ » haut de gamme qui offre la plus grande uniformité d'éclairage sur le plus grand champ possible avec un seul outil d'exposition de la tête. Ceci assure une exposition précise et uniforme de l'ensemble du photomasque. La technologie « super field » permet également des expositions directes sur plaquettes pour d'autres applications telles que les solutions de cuisson post exposition (PEB). L'actif dispose également d'un modèle intégré de transfert de données pour la communication avec les systèmes hôtes. Cette fonctionnalité permet de télécharger et d'analyser rapidement les données de l'équipement. Le système photorésist Clean Track Mark 7 possède également de nombreuses fonctionnalités d'automatisation avancées telles que le contrôle intégré de la température et l'actionnement de l'obturateur. Cela permet un contrôle précis et précis des temps d'exposition et permet un suivi précis du produit tout au long du processus d'exposition. Cette fonction d'automatisation est essentielle pour réduire les frais généraux liés à la production de photolithographie. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 offre également des caractéristiques de protection avancées. Il s'agit notamment d'une machine d'isolation des vibrations, d'une protection statique/dynamique, d'une filtration de l'air et d'une isolation des défauts. Ces caractéristiques permettent une meilleure protection des composants de l'outil pendant le processus d'exposition et garantissent que l'actif reste dans de bonnes conditions d'exploitation. Dans l'ensemble, TEL Clean Track Mark 7 est une technologie inestimable pour la production de photomasques de haute précision et fiables. Il offre des fonctionnalités avancées et des capacités d'automatisation qui permettent la production efficace de circuits complexes. L'équipement est bien adapté pour une utilisation dans les industries des semi-conducteurs et des PCB.
Il n'y a pas encore de critiques