Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293746057 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un équipement de photorésistance utilisé dans le nano-usinage de circuits et dispositifs électroniques. Le système utilise une source lumineuse UV puissante pour éclairer sélectivement une zone particulière du matériau du substrat. Cette zone exposée est ensuite revêtue d'une couche de résine photosensible, qui fournit une couche isolante pour protéger les composants sous-jacents et les couches du substrat contre une nouvelle exposition. L'unité peut alors être utilisée pour graver la zone exposée de la couche de résine photosensible afin de créer le motif désiré pour un traitement ultérieur. The Light Source on TEL Clean Track Mark 7 est une lampe en céramique au carbure de silicium brûlé par plasma qui produit de la lumière UV avec une longueur d'onde spectrale d'environ 365nm - 395nm. Ceci permet une plus grande précision dans l'opération de photolithographie. La source lumineuse peut être dirigée sur le substrat sous différents angles, ce qui permet un meilleur contrôle du processus de conception. La machine de photolithographie comporte également un masque qui est placé entre le substrat et la source lumineuse. Il contient le motif à appliquer sur le matériau du substrat. Le masque fait partie intégrante de l'outil et peut être modifié facilement pour tenir compte de différents motifs sur différents substrats. Outre la source lumineuse et le masque, la photolithographie TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 contient également un logiciel qui peut être utilisé pour contrôler le modèle et créer les motifs souhaités. Il permet également une surveillance et un retour en temps réel de l'opération de photolithographie, rendant le processus beaucoup plus fiable et moins sujet aux défauts et aux erreurs. Clean Track Mark 7 est un équipement de photorésistance puissant et sophistiqué qui est utilisé dans la création de circuits et d'appareils électroniques complexes. Sa puissante source lumineuse, sa capacité à contrôler l'angle d'exposition et sa capacité à manipuler rapidement et facilement le masque permettent d'assurer précision et précision dans le processus de nano-usinage, ce qui permet de créer des conceptions très petites et complexes. Le logiciel permet également de garantir que les erreurs et les défauts sont rapidement identifiés et éliminés. Bref, c'est un outil indispensable pour le processus de nano-usinage.