Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #293746058 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un équipement de photorésistance développé par TEL Ltd. Le système est conçu pour être utilisé par les opérateurs de machines pour le traitement de précision et la réparation des circuits intégrés haute densité (HDIC) et des dispositifs à haut rapport d'aspect (HAR). Cette unité de photorésistance avancée est conçue pour réduire les dommages au substrat et offre une précision de type lithographie lorsqu'elle est utilisée pour la modification du dispositif sensible. La machine se compose d'une station de dépôt, d'une station d'ingénierie du modèle et d'une station d'évaluation. La station de dépôt permet le dépôt de matériaux photorésistants sur le substrat avec une grande précision. La station d'ingénierie des motifs permet de créer des motifs de haute précision sur le substrat, tandis que la station d'évaluation permet d'évaluer les motifs déposés. TEL Clean Track Mark 7 utilise un procédé de revêtement breveté, qui comprend une étape unique de prétraitement. Au cours de cette étape, le substrat est traité par un plasma à base d'oxygène pour éliminer les contaminants et les couches d'oxydation, ce qui peut réduire la qualité des photorésistes déposés. L'étape de prétraitement assure également l'adhésion efficace de la résine photosensible au substrat. L'actif photorésist dispose également d'un modèle d'imagerie de haute qualité, qui comprend un capteur d'image numérique, une lentille optique de haute précision et un algorithme propriétaire de traitement d'image. Cet équipement utilise une technologie de pointe pour fournir une résolution plus élevée du processus d'imagerie, permettant un contrôle précis de la formation du motif. Le système de photorésistance TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 dispose également de technologies automatisées de correction de motifs, permettant de régler la taille, la forme et/ou l'orientation des motifs de résines. Cette caractéristique permet la production de motifs très précis qui peuvent atteindre des tolérances serrées et des rendements élevés. En outre, cette unité de photorésistance est équipée d'une machine d'élimination des particules, ce qui contribue à réduire la contamination des particules dans la photorésist. Cet outil aide l'actif photorésist à rester propre et permet la formation de motifs de résistance de haute précision. En résumé, le modèle photorésist Clean Track Mark 7 est une solution avancée pour le traitement et la réparation des HDIC et des appareils HAR. Le procédé de revêtement breveté et les technologies automatisées de correction des motifs permettent la formation de motifs de résistance précis et précis, tandis que l'équipement d'imagerie et le système d'élimination des particules contribuent à assurer la propreté et la précision.