Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9158020 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7
ID: 9158020
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
(5) Developer systems, 8" Dual blocks 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est la nouvelle génération de systèmes photorésistants conçus pour répondre aux besoins les plus récents de fabrication et de traitement des semi-conducteurs. Cet équipement offre des fonctionnalités avancées qui offrent une gamme supérieure de capacités et de performances. TEL Clean Track Mark 7 utilise la technologie DME (Direct-Drive Maskless Exposure) qui permet de mieux modeler les substrats tels que les couches photorésistantes. Avec cette technologie, le système optique expose un substrat selon les données de conception assistée par ordinateur (CAO) au lieu d'utiliser un photomasque. Cette méthode élimine le besoin d'une pièce blanche supplémentaire pour faire des masques, économiser du temps et de l'argent. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 dispose également d'un réglage de précision de motif actif (APP). Cette capacité permet un meilleur contrôle de la résistance sur les couches photorésistantes où les détails de haute résolution, tels que LWR (rugosité de la largeur de ligne) est le plus important. APP aide à maintenir LWR dans les 5 nm, le rendant idéal pour les processus où le niveau de précision est un must. En plus du DME et de l'APP, Clean Track Mark 7 comprend une unité de mouvement de substrat. Ceci permet de déplacer le substrat dans les directions X, Y et Z, et de basculer jusqu'à 30 degrés de décalage. Cette machine permet de multiples tailles et formes de substrat, et tous les réglages et alignement peuvent être faits rapidement et avec précision, économisant du temps et de l'argent. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 dispose également d'une gamme de caractéristiques de nettoyage de pointe. Cet outil utilise une opération brevetée de nettoyage aérospatial, qui aide à réduire la diffusion des particules tout en nettoyant la résine photosensible. Il offre également un procédé propriétaire de nettoyage humide utilisant une eau de type DI, qui aide à minimiser la corrosion de surface due à des produits chimiques forts. TEL Clean Track Mark 7 est également équipé d'un atout de pré-alignement qui aide à maximiser la précision de l'alignement en mesurant la longueur, la largeur et la surface de chaque filière à partir des données de la source CAO. Ce modèle aide également à réduire la quantité de travail manuel nécessaire pendant le placement de la filière et réduit le besoin d'inspection manuelle et d'optimisation. En résumé, l'équipement TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 fournit les performances les plus élevées et les caractéristiques les plus avancées de l'industrie des semi-conducteurs dans les systèmes photorésistants. Sa technologie d'exposition sans masque à entraînement direct, sa capacité de réglage de précision des motifs actifs, son système de mouvement des substrats et sa gamme de fonctions de nettoyage offrent une précision exceptionnelle avec une configuration et un fonctionnement rapides.
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