Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9165472 à vendre en France
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ID: 9165472
Taille de la plaquette: 8"
Coater / (2) Developer system, 8"
Scrubber
Single block
Interface
CANON Stepper
Wafer flow: Left to right.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 (CTM-7) est un équipement de photorésistance de pointe développé par Tokyo Elecctron Inc., et est utilisé dans les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Le CTM-7 utilise un certain nombre de technologies de pointe, qui lui permettent de traiter les plaquettes plus rapidement et plus précisément que jamais. Le CTM-7 utilise un système de piste de type relais avec vis à plomb et roulis de haute précision ainsi qu'un ensemble de guidage à roulement, ce qui garantit que les plaquettes circulent sur un chemin précis. De plus, le CTM-7 utilise une structure de rotation unique à deux niveaux pour assurer un mouvement uniforme de la plaquette, et pour réduire le temps nécessaire à la rotation de la plaquette. Le CTM-7 est également équipé d'une caméra haute résolution, qui lui permet de détecter et de stocker des informations sur les plaquettes. Ces informations sont ensuite utilisées pour guider le processus de photorésist sur la plaquette, assurant une application optimale de la photorésist. Le CTM-7 est également équipé d'une machine de régulation de température multi-zones, qui peut maintenir des températures uniformes dans les différentes régions du CTM-7. L'outil est capable de contrôler avec précision les températures de -10 ° C à + 250 ° C Le CTM-7 peut également s'intégrer à plusieurs autres systèmes, tels que les bancs humides, les contrôleurs de chauffage et les systèmes de lithographie. Cela permet une intégration à plusieurs étapes du processus. Le CTM-7 est un actif photorésistant très avancé conçu pour être utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Sa conception et ses caractéristiques avancées lui permettent de traiter avec précision et rapidité les plaquettes, ce qui en fait un modèle idéal pour les lignes de production. De plus, sa capacité à s'intégrer à d'autres systèmes en fait une solution puissante pour rationaliser le processus photorésist.
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