Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9196447 à vendre en France
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ID: 9196447
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1992
Coater / Developers system, 6"
System: Left to right for 8" wafer
Indexer: 4 Cassette stage (Uni-Cassette)
Configuration:
Main body 1
IF
Chemical cabinet 1 & 2
THC
PC Rack
Main controller: NEC FC-9801X
C/S Robot type: Vacuum arm / Ceramic pincette
Main robot type: 3-Pincette arm
Indexer: Laser diode mapping sensor
SCR: JET Nozzle / Rinse nozzle
Coat:
(4) Resist nozzles
Bellows pump 1 gallon resist bottle
Thinner local supply (Canister)
EBR Nozzle
Back rinse nozzle
Local drain (1ST SUS 10L Tank / Drain pump)
DEV:
Nozzle type:
E2 Nozzle
Rinse nozzle
Back rinse nozzle
local supply
Facility drain
WEE: UL-200T-L1 UV Light source
AD: Local supply
Currently warehoused
1992 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 (CTM-7) est un équipement de photorésistance utilisé dans les processus de fabrication et de construction de l'industrie des semi-conducteurs. Il est utilisé pour diverses applications, telles que la photolithographie, la gravure humide et sèche et d'autres procédés photoniques. Le CTM-7 est conçu pour les grandes plaquettes complexes avec des tailles de caractéristiques très précises allant jusqu'à 0,25 micromètre. Il a un débit élevé et est très efficace par rapport aux autres systèmes photorésistants. Le CTM-7 utilise une optique de projection laser indirecte et directe combinée pour positionner avec précision la couche de résine photosensible sur le substrat de la plaquette. La résine photosensible est maintenue sur un rouleau CPE par force électrostatique, ce qui lui permet d'être positionnée avec une précision de centrage de +/- 1micron. La couche de résine photosensible est distribuée par le distributeur de haute précision selon les paramètres prédéfinis pour le travail. Ensuite, les faisceaux laser au niveau de la couche de résine photosensible pour exposer le substrat sous-jacent. Le substrat exposé est ensuite gravé à une profondeur définie en fonction des paramètres du travail. Le CTM-7 dispose également d'un système avancé de manutention sous vide, qui permet un alignement et une manipulation optimaux de la plaquette. Une fois la gravure terminée, la plaquette est lavée et rincée dans un bain diélectrique avant d'être automatiquement chargée dans le spin-dry pour séchage. Le spin-dryer offre des temps de cycle améliorés et améliore la propreté de la plaquette. Le CTM-7 est également livré avec une unité d'inspection automatique des plaquettes, qui permet aux utilisateurs de vérifier rapidement et avec précision les défauts sur la surface des plaquettes. En outre, il est équipé d'une machine de surveillance avancée des processus, qui utilise le traitement d'image pour surveiller les étapes du processus en temps réel et ajuster automatiquement les paramètres en conséquence. Cela garantit que les processus de photolithographie, de gravure et de nettoyage se déroulent tous au niveau optimal de qualité. En conclusion, TEL Clean Track Mark 7 est un outil photorésist fiable et efficace, qui offre des performances et une précision élevées, ainsi que des temps de cycle améliorés. Ses caractéristiques avancées, telles que l'outil de manutention sous vide et le modèle de surveillance du processus, garantissent que le processus est complété au plus haut niveau de qualité et de précision.
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