Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9243714 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un équipement de photorésistance de pointe utilisé dans le processus de photolithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système est conçu pour améliorer la précision et la répétabilité des caractéristiques de sous-microns dans les circuits intégrés. La photolithographie est un procédé par lequel des motifs sont placés sur un matériau de substrat comme des plaquettes semi-conductrices, du verre LCD ou d'autres matériaux utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. L'unité utilise une optique de projection puissante et un étage de haute précision pour aligner les parties exposées et non exposées du matériau du substrat. Pour atteindre sa précision et sa répétabilité supérieures, la machine TEL Clean Track Mark 7 intègre un outil optique haute performance ainsi qu'un outil de contrôle de mouvement pour contrôler la trajectoire et l'inspection du matériau du substrat. Le modèle optique est équipé d'une lentille de collimation haut débit qui focalise la lumière sur le revêtement. Un équipement de commande de mouvement à grande vitesse et ultra précis consiste en un étage linéaire à 3 axes pour l'alignement du substrat et le placement des composants, et en un bras robotisé d'articulation à 6 axes pour le balayage, l'inspection et le rinçage. Ce système permet un placement précis et répétable de couches de matériau photorésist sur le matériau substrat. La technologie comprend également un poste de nettoyage automatisé pour éliminer les résidus, les poussières et les contaminants du matériau du substrat, et un poste d'inspection des films pour confirmer le bon emplacement et l'alignement des couches. L'unité de pointe TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 intègre également des algorithmes innovants de reconnaissance d'image et des outils robotiques pour l'inspection et l'optimisation des couches photorésistantes. La machine est capable de détecter des défauts et des défauts aussi petits que 2µm, et peut mesurer la rugosité ligne-bord et la distance bout à bout à une précision de 5µm. L'outil Clean Track Mark 7 est breveté par TEL et est un atout photorésist de premier plan pour la mise en œuvre de la technologie de procédé semi-conducteur de pointe. Ce modèle avancé offre une grande précision, répétabilité et fiabilité pour les processus de photolithographie de précision utilisés par de nombreuses industries telles que les semi-conducteurs, l'affichage et le stockage de données. La précision et la polyvalence de l'équipement en font une solution idéale pour la fabrication de petits composants électroniques ultra-haute densité.