Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9265762 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un équipement de photorésistance conçu pour des applications de haute précision telles que la création de composants microélectroniques. Il dispose d'un environnement de gravure de haute précision, de faible contrainte et de faible dépendance climatique qui permet de fabriquer facilement les structures les plus complexes. TEL Clean Track Mark 7 est un système qui comprend trois composants : une unité d'immersion, une unité de transfert et une unité sèche. L'unité d'immersion est une chambre à vide immergée dans une solution de graveur à base de solvant. Ceci fournit un processus de gravure répétable, très uniforme, et élimine le besoin de traitements post-gravure. L'unité de transfert transfère le masque photorésist modelé de la plaquette vers l'unité d'immersion, et l'unité sèche chasse l'excès de liquide du matériau gravé. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est capable de graver avec précision les caractéristiques jusqu'à 45nm de diamètre, avec un contrôle de bord exceptionnel et un excellent contrôle de la largeur de ligne. Il est capable de manipuler une variété de matériaux photorésistants, ce qui lui permet d'être utilisé pour une gamme de procédés de micro-fabrication très sensibles. L'unité dispose également d'un niveau de précision élevé de traitement des plaquettes, avec un niveau de précision répétable de 0,6 μ m sur 5 μ m de long pas. En plus de la technologie de gravure de haute précision, Clean Track Mark 7 dispose d'un design modulaire, ce qui facilite la personnalisation pour les utilisateurs. Il est également équipé d'une interface opératoire pratique et intuitive pour aider à la surveillance et au contrôle des processus. La machine a des fonctions intégrées pour assurer la cohérence des processus, et elle est conçue pour être fiable, efficace et sûre. TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un outil photorésist efficace et fiable qui peut répondre aux exigences strictes associées à la fabrication des dispositifs semi-conducteurs les plus avancés. Il permet une gravure de haute précision, avec un excellent contrôle de la vitesse de gravure, et une large gamme de capacités de traitement des plaquettes, fournissant des résultats de haute qualité temps après temps.