Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 #9395128 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un équipement de photorésistance qui permet la production à haut débit de circuits intégrés. Le système est conçu pour parfaire le revêtement photorésist et résister aux processus de parage avec une précision remarquable, permettant des motifs de circuit propres, symétriques et bien définis. Au cœur de TEL Clean Track Mark 7 se trouve son poste de revêtement automatisé de pointe. Cette station fonctionne en appliquant précisément des photorésistants sur des surfaces de plaquettes par dépôt de couche atomique (ALD). ALD est utilisé pour assurer une couverture de revêtement uniforme, même en tenant compte de n'importe où sur la plaquette qui est difficile à atteindre. Son jet de vapeur à basse pression maximise également l'efficacité du solvant. Ceci est particulièrement important pour les petits appareils où une couverture cohérente du matériau de résistance est importante. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 dispose également d'un procédé de garniture de résistance de haute précision. Il utilise une unité avancée d'optique de faisceau de champ proche pour éliminer les résidus de résistance indésirables. Cette machine dispose d'un réglage d'angle de faisceau lumineux unique, lui permettant de profiler avec précision les bords du motif désiré. Il dispose également d'un laser haute résolution, 0,94 micron, permettant un parage propre et précis. L'outil offre également des réglages automatiques qui surveillent les niveaux de garniture et s'assurent qu'ils sont maintenus. De plus, l'alignement de substrat de haute précision de Clean Track Mark 7 offre une excellente uniformité du matériau de résistance sur la plaquette. Cet actif fonctionne également à très basse température, assurant une couverture uniforme avec des fluctuations de température minimes. En utilisant une combinaison de techniques de reconnaissance optique et de déplacement/alignement direct, l'alignement du substrat peut effectuer des mesures précises de l'entrefer et résister à la formation de motifs. En plus de ses capacités de photorésistance, TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 dispose également de plusieurs autres procédés qui contribuent au processus de production des plaquettes. Un de ceux-ci est le processus de soulèvement, qui est utilisé pour l'élimination des zones non traitées à la fin du processus de couche de résistance. Ce modèle est conçu pour une précision élevée - il utilise un équipement efficace de drain-joint qui empêche l'excès de solvant de se déverser et endommager la plaquette. Avec le processus de décollage de TEL Clean Track Mark 7, des bords précis et propres peuvent être réalisés, garantissant une efficacité de production et un rendement maximaux. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 7 est un système de photorésistance hautement capable. Son poste de revêtement soigneusement conçu, ses procédés de parage automatisés et son alignement précis des substrats en font une unité idéale pour produire des motifs de circuit propres, symétriques et bien définis pour diverses applications. De plus, son processus de décollage intégré permet l'enlèvement rapide et précis des zones non traitées afin de maximiser le rendement et l'efficacité de la production.