Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #293585704 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est un équipement de photorésistance sophistiqué conçu pour aligner et modeler avec précision les plaquettes. Il offre une plateforme conçue pour tirer pleinement parti des technologies éprouvées de TEL LIMITED (TOKYO ELECTRON) en photolithographie, en résistance au traitement et en manutention des plaquettes. TEL Clean Track Mark 8 est idéal pour la lithographie en photorésistance. Il permet un positionnement précis des masques, une excellente précision d'alignement et un transfert efficace du motif sur la plaquette. Le système comprend un mini-champ de poche pour l'enregistrement du CCD ; une phase d'alignement ultra-compacte ; une unité d'exposition en plein champ ; une station de chargement de plaquettes ; et la manutention intégrée des plaquettes. Ces composants créent une solution de lithographie conçue pour améliorer la résolution, la répétabilité et la distorsion minimale. La mini-gamme dispose d'un enregistrement automatique et non destructif des masques et des plaquettes, ce qui réduit le temps d'exposition et améliore la précision de l'alignement. La conception avancée de l'OptiScope augmente le débit et la précision de l'alignement et de l'enregistrement en utilisant une seule analyse, en réduisant le temps d'exposition et en augmentant la précision de l'alignement au besoin. L'OptiScope comprend également des affichages en temps réel des informations d'alignement et d'enregistrement des masques, ce qui permet au personnel d'exploitation d'ajuster ses produits rapidement et facilement. La phase d'alignement ultra compacte garantit une précision exquise et un alignement homogène en utilisant des technologies de motorisation et de conception mécanique avancées. Il fournit la stabilité, la précision et la vitesse et dispose d'une machine d'éclairage d'une seule pièce. Les performances ainsi obtenues garantissent une excellente précision du motif après exposition. L'outil d'exposition plein champ offre une excellente précision et un excellent débit de transfert de motifs. Il utilise des méthodes avancées de marquage laser et un obturateur électronique, qui offre une résolution améliorée de 5um et une capacité allant jusqu'à 5 plaquettes par heure. Et la station de chargement Wafer permet un chargement et un déchargement faciles, réduisant le temps d'exposition et améliorant le débit. L'outil intégré de manutention des plaquettes est conçu pour fournir l'échange à chaud et l'accès intégré nécessaires à un environnement de production haute performance. La station de chargement de plaquettes est capable de connecter jusqu'à quatre systèmes d'introduction de plaquettes en parallèle, permettant un chargement et un déchargement de plaquettes efficaces. En résumé, le modèle photorésist TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 offre une plate-forme complète et fiable pour une production efficace. Il permet une gestion avancée de l'alignement et de l'exposition, assurant un transfert précis des plaquettes. Cela en fait une solution idéale pour la production d'applications photorésistantes de haute précision.