TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 d'occasion à vendre
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Clean Track Mark 8
System, 8" SMC INR-244-110D Thermo controller (3) SMC INR-244-112A Chillers (5) SMC INR-244-113B The
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
Coater / Developer system COT ARCCOT (2) DEV WEE Missing parts: AD ASSY Unit UL200T-L1 Circulator M
75
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Dual blocks Coater: (3) Nozzles Developer: E2 Nozzle Wafer flo
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system 1995 vintage.
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
IRAM Interface block, 8" Includes: (2) KOGANEL Robots P/N: CR1131W-D (2) OLYMPUS Servo drivers TAIY
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Single block Open cassette Interface for NIKON NSR 2205 EX14C
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (3) Developer system, 8" Dual block Silicon substrate wafer Wafer flow: Right to left
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (3) Developer systems, 8" Double block + IFB Right to left 2C2D 1IFB 2C3D 1IFB SMIF - 3
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
Coater / (2) Developer system, 8" Wafer type: SMIF 1996 vintage.
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Interface Single block ASML Stepper Wafer flow: Right to left
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (1) Developer system, 8" Single block 1996 vintage.
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Clean Track Mark 8
(1) Coater / (2) Developer system, 6" Dual block 1996 vintage.
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / Developer system, 8" Upgraded from Mark 7 Single block.
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Upgraded from Mark 7 Single block Interface NIKON Stepper Wafe
50
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Upgraded from Mark 7 Single block Interface NIKON Stepper Wafe
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Single block Interface ASML Stepper Wafer flow: Right to left
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Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Single block Interface ASML Stepper Wafer flow: Right to left
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TEL / TOKYO ELECTRON
Clean Track Mark 8
(2) Coater / (2) Developer system, 8" (1) IFB Dual block.
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