Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #293628320 à vendre en France

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ID: 293628320
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Resist coater / Developer system, 8" Single block Controller type: NEC-PC-9800 Wafer direction: Right to left AC Power box TCU: (2) Electronic controllers Hard Disk Drive (HDD) not included AC power cable: 1 Phase 2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est un équipement de photorésistance conçu pour la haute précision et la finition. Le système photorésist est conçu pour exposer un motif fin et uniforme sur un substrat, tel qu'une plaquette de silicium, et est utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs innovants. Cette unité utilise un scanner de piste submergeable, qui se compose d'un corps principal, d'un objectif de projection et de systèmes d'entraînement. Le scanner de piste submergeable est relié à un contrôleur de piste, qui contrôle les différents paramètres de la machine. L'objectif de projection est relié au scanner de piste, et il est immergé dans une solution de photorésist liquide. L'objectif de projection est utilisé pour focaliser la lumière sur la photorésist, et les systèmes d'entraínement permettent de positionner avec précision x, y et z le motif sur le substrat. L'outil peut générer des motifs homogènes et de grande précision, avec une précision allant jusqu'à 0,1 micron et une précision allant jusqu'à 0,2 micron. La résine photosensible assure également la stabilité, ce qui signifie qu'elle n'est pas affectée par la température, la pression ou l'âge. Cela le rend idéal pour une utilisation dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, car des motifs précis et de haute précision sont requis. TEL Clean Track Mark 8 est idéal pour ceux qui ont besoin d'une façon fiable et précise de fixer des couches minces de résistance sur leurs substrats. Le modèle peut fournir des motifs uniformes et de haute précision avec une précision allant jusqu'à 0,1 micron, et la résine photosensible utilisée n'est pas affectée par l'âge, la température et la pression. Enfin, cet équipement peut également être utilisé pour réaliser des motifs tridimensionnels à haute densité, ce qui permet de produire des dispositifs innovants avec plus de précision et de précision.
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