Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9128615 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement des semi-conducteurs à l'échelle du nanomètre. Ce système utilise une technologie avancée de gravure sèche et de co-traitement de résines photosensibles pour fournir des composants avec une lisse de surface supérieure, un rendement plus élevé et un taux de particules plus faible. L'unité est capable de modeler et de graver avec un minimum d'étapes de nettoyage, permettant un travail rapide, uniforme et fiable avec des dommages diélectriques minimisés, tout en contrôlant les paramètres de gravure avec une grande précision. TEL Clean Track Mark 8 peut accueillir plusieurs recettes de résines photosensibles, y compris la double couche et la monocouche. Il peut traiter les photorésistes positifs et négatifs en utilisant l'alignement des photomasques VUV/FUV. La machine est conçue pour des performances et une homogénéité inégalées, offrant des débits productifs élevés sur une variété de substrats et de films minces. L'outil est basé sur la technologie Spin Etch, qui utilise une électrode tournante pour graver la plaquette d'une manière de poursuite. L'électrode tournante produit une vitesse de gravure uniforme sur une large surface et est capable de générer et de contrôler un plasma à basse pression uniforme sur une large gamme de niveaux de puissance. Cette technologie augmente l'homogénéité et réduit les dommages de charge dus au traitement thermique de la plaquette. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 soutient une productivité élevée et un traitement efficace ainsi qu'une vitesse de gravure améliorée pour les structures critiques. Il utilise un module de gravure en ligne pour réduire le temps de gravure, permettre des dimensions plus précises et des temps de traitement plus rapides. En outre, l'actif fournit un contrôle précis de la température et du temps de gravure. Il comporte également un étage de chargement à angle variable pour réduire encore le temps de chargement et de déchargement des substrats. Les systèmes offrent une meilleure précision de recouvrement et une efficacité accrue dans l'élimination de la résine photosensible. Pour ce faire, on applique et enlève des photorésistes sur différents angles, ce qui permet la génération de motifs séparés de différentes tailles et formes. Le modèle a une capacité d'épuration in situ qui peut aider à éliminer les particules résiduelles et les particules qui adhèrent à la surface pendant le processus de gravure. En résumé, Clean Track Mark 8 est un équipement de photorésistance conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Le système est capable de créer et de graver des composants à l'échelle nanométrique avec des étapes de nettoyage minimales, et utilise une variété de technologies de pointe, y compris Spin Etch, module de gravure en ligne, contrôle précis de la température et de temps précis pour améliorer le rendement et réduire le nombre de particules. L'unité offre également une meilleure précision de recouvrement et une efficacité accrue dans l'élimination de la résine photosensible.