Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9158015 à vendre en France
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ID: 9158015
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
(2) Coater / (3) Developer system, 8"
Dual block
Silicon substrate wafer
Wafer flow: Right to left
CSB Unit at right
Interface station unit at left
(2) Process blocks:
Cassette station block (CSB):
FC-9801F Controller
Stage / Indexer:
Non SMIF / Open uni-cassette
Cassette station (CS)
Cassette station arm (CSA)
PSB / Process station block (Spin units):
2-1 Standard photo resist coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
(6) Photo resist bottles in external chemical supply systems
Photo resist auto exchange
Auto dummy dispense system
2-2 Bottom layer coat (BCT) unit:
(3) Bottom layer coat (BCT) dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows photo resist pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzle
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Photo resist bottle: (6) External photo resist supply system
Photo resist auto exchange
Auto dummy dispense system
Process block robotics arm (PRA)
Adhesion unit (AD)
(5) Hot plate oven units
(2) Dehydration hot plate (DHP) oven units
(2) Cool plate units
Process station block (Spin units):
3-2, 3-3, 3-4 Develop units:
(4) Stream nozzles at (4) Stream nozzle blocks
Rinse nozzles:
(2) Stream type
Spray type
Dual back rinse nozzles
Develop temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispense system
Process block robotics (PRA) Arm
Adhesion unit
(3) Hot plate oven units
Dehydration hot plate (DHP) oven unit
(3) Air-purge hot plate (AHP) oven units
(3) Cool plate units
Extension unit
Wafer edge exposure (WEE) unit
Interface station block (IFB):
Interface arm (IFA)
Interface for ASML PAS Series Stepper
(2) Buffers
Pick-up system
Interface cool
Extension stage
Wafer stage
Temperature and humidity controller:
TEAM KOREA TK-TH8T4
2-Cup control capacity for 2 Coat units
External chemical supply system:
Solvent supply system:
Solvent chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system
With (2) Buffer tanks: Auto switch-off / Exchange
Develop supply system:
Develop solution chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system
With (2) Buffer tanks: Auto switch-off / Exchange
Photo resist supply system for 2-1 Coat and 2-2 BCT
6-Bottles of manual supply type
Auto exchange system
HMDS Supply system:
HMDS Chemical type
CSS Bulk-fill to auto supply system with bubbling jar
HMDS Supply system
Themo controller:
External chemical supply system: (2) TEL / TOKYO ELECTRON SMC Multi controller
MAX 16 Channel capacity: 12-Channels for (2) Process
SMC Multi thermo controllers:
(6) SMC Circulators: Chilling channels
2-1 COT Unit
2-2 BCT Unit
Stream nozzle block:
Block 1 and 3: 3-2, 3-3 DEV
Block 2 and 4: 3-4 DEV
(5) Motor flanges
(6) SMC Thermo controllers: Chilling channels
2-9 COL
2-10 COL
3-7 COL
3-11 COL
3-15 COL
4-4 I/F COL
(4) Robots:
CS Arm
(2) Main arm robots
Interface arm
Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz
1997 vintage.
TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est un équipement de photorésistance utilisé dans la fabrication de cartes de circuit. Le système est capable d'une variété de processus de photorésistance, y compris spin-coating, soft-baking, alignement de masque, spray-coating, et hard-baking. La piste propre permet des résultats reproductibles et précis qui aident à créer des rendements élevés. TEL Clean Track Mark 8 est conçu pour réduire les temps d'arrêt en salle blanche et améliorer la productivité. Il dispose d'un châssis antistatique durable et fiable et d'une unité d'alignement « sans ccd » qui coupe le temps d'alignement en demie. En outre, la machine est équipée d'un écran LCD tactile, ce qui facilite la navigation des fonctions de l'outil. L'actif comprend deux technologies de cuisson uniques et avancées pour améliorer la propreté et la précision des processus. Le premier est le four fractionné, qui sépare le processus de cuisson en deux parties pour diminuer le risque de contamination et optimiser la stabilité de la température. Le second est le four hybride, qui peut complètement cuire la plaquette sans séparer le substrat en tâches. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 utilise des buses et des nettoyants spécialement conçus pour éliminer rapidement les résidus, ce qui permet de nettoyer les plaquettes tout en réduisant considérablement la production de déchets chimiques. Les capacités spéciales de revêtement réduisent l'utilisation chimique et le temps de nettoyage jusqu'à 70 %, les buses de tête en céramique aident à réduire le nombre total de particules, et le suivi de haute précision sans contact aide à améliorer la précision de l'alignement. De plus, le modèle est réaménageable, ce qui permet une compatibilité avec une variété de systèmes photorésistants. Dans l'ensemble, Clean Track Mark 8 utilise des technologies de pointe pour permettre aux utilisateurs d'obtenir des résultats reproductibles tout en minimisant l'utilisation de produits chimiques, d'énergie et de temps d'arrêt. Il est conçu pour être un équipement de photorésistance efficace qui aide les utilisateurs à atteindre des rendements maximums tout en conservant une production rentable.
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