Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9165442 à vendre en France
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ID: 9165442
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Single block
Open cassette
Interface for NIKON NSR 2205 EX14C
Silicon substrate wafer
Wafer flow: Left to right
CSB Unit at right
Interface station unit at left
(2) Process blocks: Single block system
Cassette station block (CSB):
FC-9821KE Controller
Stage / Indexer:
Non SMIF / Open uni-cassette
Cassette station (CS)
Cassette station arm (CSA)
Process station block (Spin units):
2-1 Standard photo resist coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Auto dummy dispense system installed
Photo resist bottle: (6) External chemical supply system
2-2 Anti-reflection coat unit:
(3) Photo resist dispense nozzles
(3) IWAKI Bellows photo resist pumps
Solvent pre-wet reduced resist coat (RRC) nozzle
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Dual back rinse nozzles
Photo resist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Auto dummy dispense system installed
Photo resist bottle: (6) External chemical supply system
2-3 and 2-4 Develop units:
(4) Stream nozzle blocks
(4) Stream nozzles
(2) Rinse nozzles: Stream type
Dual back rinse nozzles
Develop temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity drain type
Auto damper
Auto dummy dispense system
Process block robotics arm (PRA)
Adhesion unit
(10) Hot plate oven units
(2) Air-purge hot plate (AHP) oven units
(7) Cool plate units
Wafer edge exposure (WEE) unit
Interface station block (IFB):
Interface arm (IFA)
(2) Buffers
Pick-up system
Interface cool
Extension stage
Wafer stage
Temperature and humidity controller:
SHINWA T&H-CPC
2-Cup control capacity for (2) Coat units
External chemical supply system:
Solvent supply system for (2-1) COT and (2-2) ARC:
Solvent chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With (2) 3-Liter teflon buffer tanks
Develop supply system for 2-3 and 2-4 Develop units:
Develop solution chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With (2) 3-Liter teflon buffer tanks
(2) Photo resist supply systems:
6-Bottles of manual supply type
Auto switch-off / Exchange installed
HMDS Supply system:
HMDS Chemical type
Bulk-fill central chemical supply (CSS) type
With 3-Liter teflon buffer tanks for AD unit
External chemical supply system / Cabinet: (2) SMC Multi thermo controller units
SMC Circulator pumps and thermo controller
With 7-Channels:
2-1 COT
2-2 ARC
Motor flanges: 2-1 COT and 2-2 ARC
2-8 COL
2-12 COL
2-16 COL
2-19 COL
SMC Circulator pumps and thermo controller
With 7-Channels:
1 and 3 Stream nozzle blocks: 2-3
2 and 4 Stream nozzle blocks: 2-4
(2) Motor flanges at 2-3 and 2-4 DEV
2-20 COL
2-23 COL
2-24 COL
3-4 I/F COL
(3) Robots:
CS Arm
Main arm robots
Interface arm
Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est un système de photorésistance conçu pour répondre aux exigences des cartes de circuits d'ultra haute fiabilité et de haute précision. Le Mark 8 utilise une méthode avancée de nettoyage par contact ultrasonique (UCC), équipée d'un processus de « nettoyage par soufflage et nettoyage par balayage » en deux étapes. Le procédé de nettoyage Airblow utilise un débit d'air à grande vitesse pour éliminer la poussière, la saleté et contaminer jusqu'à une certaine taille. Il utilise le flux d'air forcé pour nettoyer la surface sans causer de dommages ou de contraintes au substrat. Le procédé de nettoyage par balayage utilise une méthode de nettoyage alternatif à l'aide d'une brosse tournante. Cela élimine les petits contaminants qui subsistent après le processus de nettoyage des Airblow. La Mark 8 intègre également plusieurs fonctionnalités supplémentaires pour améliorer les performances et la production. Il s'agit notamment de l'utilisation du nettoyant à densité spécifique (DSC), de la caméra CCD pour l'inspection des défauts, du contrôle de la température des panneaux et des chambres, de la surveillance de l'alarme matérielle et logicielle, de l'inspection des défauts de Shimura/Kitta, du contrôle automatique du niveau chimique et du contrôle de la viscosité des puces de type rouleau/ceinture. Le Mark 8 offre également un niveau supplémentaire de flexibilité avec un étage de base de carton personnalisable, lui permettant de traiter des substrats de capteurs de haute et de faible déformation, ainsi que des substrats normalisés et non normalisés. De plus, un capteur de hauteur est intégré à l'outil, ce qui réduit les risques de contamination des particules pendant le traitement et augmente les performances. À l'ère actuelle des cartes de circuits de haute précision, le système photorésist TEL Clean Track Mark 8 répond aux besoins des clients en matière de performance et de fiabilité. Ses capacités UCC avancées combinées à plusieurs fonctionnalités ajoutées aident à fournir aux clients des substrats toujours propres et de haute qualité. Avec sa polyvalence et ses capacités avancées, la Mark 8 est conçue pour répondre aux exigences les plus exigeantes, garantissant des performances inégalées.
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