Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250393 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est un équipement de photorésistance pour la création de caractéristiques photolithographiques pour dispositifs semi-conducteurs, utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. Le système utilise deux sources lumineuses pour modeler la résine photosensible, une source lumineuse focalisée et une source de balayage. La source de lumière focalisée est utilisée pour créer une couche du motif, tandis que la source de balayage est utilisée pour créer des couches successives du motif photorésist. La source de lumière focalisée est constituée d'un faisceau laser focalisé à travers une série de lentilles sur la couche de résine photosensible. Ce faisceau focalisé alimente la photorésist, ce qui la fait réticuler et former un motif. Le motif est ensuite transféré sur la couche de résine photosensible et un certain nombre de techniques de gravure peuvent être utilisées pour obtenir des résultats différents. La source laser de balayage est utilisée pour modéliser la résine photosensible. Le faisceau laser est focalisé sur la photorésist et tiré dans un motif raster à travers la couche de photorésist. Ce motif de tir est ensuite répété pour chaque couche, d'où un motif de complexité variable. Le faisceau laser est également utilisé pour graver l'excès de photorésist, laissant le motif désiré sur le substrat. TEL Clean Track Mark 8 est capable de produire des motifs de taille inférieure à 0,13 micromètre, ce qui le rend capable de produire des motifs fins qui ne peuvent être réalisés par aucune autre machine photorésist. L'outil est également moins sujet aux incendies et aux erreurs que les autres systèmes photorésistants, ce qui en fait un choix fiable pour la création de dispositifs semi-conducteurs. En outre, l'actif dispose d'un délai de traitement plus court que les autres systèmes, ce qui en fait un choix plus efficace pour les produits manufacturés. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est un modèle photorésist très fiable et efficace, capable de produire des motifs jusqu'à 0,13 micromètre de taille. L'équipement est utilisé pour créer des caractéristiques photolithographiques pour des dispositifs semi-conducteurs, utilisés dans la fabrication de circuits intégrés. Le système utilise deux sources de lumière - une source de lumière focalisée et une source de balayage - pour modeler la résine photosensible, ce qui permet un niveau élevé de précision et de précision. L'unité est moins sujette aux incendies et aux erreurs que les autres systèmes, ce qui en fait une solution idéale pour les fabricants.