Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9250394 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 Photoresist Equipment est un outil performant et rentable pour les procédés semi-conducteurs. Il est utilisé pour appliquer des motifs de photorésist, un liquide qui sert de masque de gravure lors de la photolithographie, sur des substrats tels que des plaquettes, des cartes de circuits imprimés et d'autres matériaux. En exposant un motif de photorésist sur le substrat, TEL Clean Track Mark 8 permet la formation de microstructures telles que des IC, des transistors, des condensateurs et des dispositifs optoélectroniques. TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est conçu pour fournir un haut niveau de précision dans la mise en page avec l'alignement du substrat et l'exposition. Il est doté d'une architecture de système évolutive, composée d'une unité d'exposition à la photo, d'une unité de revêtement à la résine, d'un nettoyant à plasma, d'un décapant à la résine et d'une plaque d'exposition UPS, tous reliés à un PC. L'unité est équipée d'un générateur de motifs intégrés et d'une source d'exposition et d'une capacité de charge/déchargement automatique pour la production rapide d'appareils. La machine est capable d'obtenir une précision de largeur de ligne de 1,0 μ m ou mieux et une précision de mesure de 0,05 μ m ou mieux. Il est équipé d'un outil d'alignement photo-optique de précision avancée qui peut détecter, aligner et configurer automatiquement le substrat sur la plate-forme de piste à une tolérance de 0,05 μ m. Une source de faisceau E à courant élevé de 8 pouces est également utilisée, permettant de créer des motifs d'exposition très fins et denses. En outre, l'ensemble de support de haute qualité Clean Track offre une suite d'outils de correction de motifs et d'optimisation de conception qui garantissent une performance optimale des plaquettes et des substrats. Clean Track Mark 8 est idéal pour les opérations à haut et faible volume, offrant flexibilité et économies tout en maintenant des niveaux de performance élevés. Il peut également réduire les temps de processus, optimiser la répétabilité des processus et produire une lithographie avancée avec une précision accrue. L'actif est entièrement programmable et compatible avec différents types de résistances, ce qui en fait un excellent choix pour la production à grande échelle d'appareils micro-électroniques.