Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 #9392817 à vendre en France
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ID: 9392817
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
Dual blocks
Coater: (3) Nozzles
Developer: E2 Nozzle
Wafer flow: Right to left (CSB Unit right side and interface station left side)
Tank auto switch off / Exchange missing
Block 1:
FC-9821Ke Controller
Stage / Indexer: SMIF / Cassette station
Cassette Station Arm (CSA)
Block 2:
Normal photo resist coater 2-1, 2-2:
(2) Photoresist dispense nozzles per coat unit
(2) Photoresist dispense nozzles and 2-RRC Resist pump per coater
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) for normal coater
Dual back rinse nozzle
Photoresist temperature control
Motor flange temperature control
Photoresist drain type: Direct gravity
Photoresist bottle: 2-Space
Photoresist auto exchange
Auto dummy dispense system
Cup type: PP Upper cup and inner cup
Auto damper: Cylinder
Block 3:
Developer 3-1, 3-2 Unit:
Single E2 nozzle
Dual top rinse nozzles
Back rinse nozzles
Developer temperature control
Motor flange temperature control
Drain type: Direct gravity
Auto damper
Auto dummy dispense system
Cup type: Stainless steel for upper and PP for inner
(2) Low temperature ovens (LHP)
(4) Cool plate units
SHINWA Temperature and Humidity Controller (THC): 2-CUP
External chemical supply system:
Section-1: Solvent supply system
Solvent chemical type:
Chemical Center Supply System (CCSS)
With (2) of 3-litres teflon buffer tank
Type: (2) Buffer tanks (3litre/Tank, teflon) (2) Coaters
Tank auto switch off / Exchange
Section 2: Develop:
Develop chemical type
Chemical Center Supply System (CCSS)
With (2) of 3-litres teflon buffer tank to cover (2) DEV Units
Tank auto switch-off / Exchange
HMDS Supply system for 2 AD Unit:
Chemical type
1/4-Gal bottle
With 1L Buffer tank per ADH
SMC Multi controller: Rear mail body
Power transformer AC cabinet : 208 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz
ASML
(6) Hot transfer plates: HP3-4 / HP3-5 / HP 3-7 / HP 3-8 / HP2-4 / HP 2-8
(5) Cold transfer plates: COL2-9 / COL2-10 / COL3-6 / COL3-9 / COL3-10
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Missing parts:
CSB Unit:
X, Y, Z Theta motor
Y, Z Motor driver
FFU
COAT 2-1:
EBR Cylinder
Spin chuck
RRC Pump
Spin motor driver
Spin connection board
VAC Sensor
(4) Solenoid valves
COAT 2-2:
EBR Cylinder
Spin chuck
RRC Pump
Spin motor driver
VAC Sensor
(11) Solenoid valves
DEV 3-1:
DEV Spin motor and driver
DI Rinse arm cylinder
Spin unit base assembly
DEV Cup
Spin chuck
Spin connection board
Solenoid valve mainfold
VAC Sensor
D.I Rinse flow meter
(4) Flow meter sensors
DEV 3-2:
DEV Spin motor and driver
DI Rinse arm cylinder
Spin unit base assembly
DEV Cup
Spin chuck
Spin connection board
VAC Sensor
IFB:
Arm assembly
(2) Trabot arms for ASML
Y, Z Motor driver
2-Block system:
FFU
Main arm assembly
Y, Z Motor driver
SIMF Card
TVME Card
(2) AD Units
HP Unit
Circulator pump
(10) DC Power fuses
3-Block system:
FFU
Main arm assembly
Y-Z Motor driver
TVME Card
(2) CP Units
(2) CPL Powers
(3) HP Units
Circulator pump
(10) DC Power fuses
WEE Lamp house
(2) Temperature and humidity controllers
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Mark 8 est un équipement de photorésistance automatisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés, développé et fabriqué par TEL. Il s'agit d'un système intégré à haut débit offrant un processus de production cohérent et de haute qualité avec des améliorations de vitesse et de précision. L'unité est équipée de technologies de nettoyage et de revêtement robustes et efficaces, conçues pour minimiser la production de particules et les résidus. Le cœur de la machine est la chambre Clean Track, qui est conçue pour maintenir les plaquettes en place et assurer la répétabilité pendant le processus de fabrication. La chambre utilise une technologie avancée de nettoyage de chambre et une combinaison de traitement par plasma, nettoyage chimique et technologies avancées de revêtement pour réduire les particules et autres résidus. L'outil Mark 8 est en outre équipé d'une variété de fonctions automatisées, dont le transfert et la manipulation automatiques des substrats, un atout de recette automatisé, la vérification automatisée des substrats et l'enregistrement automatique des données de chaque substrat traité. Le modèle est capable de traiter différentes tailles de substrat, types de substrat et formes avec une grande précision. L'équipement dispose également d'une conception avancée de la buse pour faciliter le revêtement optimal et la pulvérisation du matériau photorésist. En outre, il est équipé de systèmes avancés de détection de particules pour s'assurer que les substrats contenant des niveaux élevés de particules ou d'autres résidus ne sont pas traités plus avant. TEL Clean Track Mark 8 offre une solution de traitement de résines photosensibles de faible coût et de haute qualité adaptée à une gamme de procédés de fabrication d'appareils avancés. Sa conception modulaire et ses composants permettent la polyvalence et la rentabilité. Le débit de gaz avancé et le contrôle de l'humidité fournissent l'environnement idéal pour le revêtement photorésist, et la manipulation automatisée du substrat minimise la contamination. Le système permet également l'optimisation des processus en traçant les variations de traitement des substrats et en enregistrant des données en temps réel.
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