Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293589534 à vendre en France
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ID: 293589534
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Coater / Developer system, 12"
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photorésistance utilisé en photolithographie, un procédé utilisé dans la fabrication de circuits intégrés et d'autres systèmes utilisés dans l'industrie électronique. Ce système utilise la lumière à travers un réticule pour projeter des motifs de circuits sur des couches photorésistantes. La photorésist est un matériau sensible à la lumière utilisé pour créer des circuits électroniques. C'est un matériau polymère qui se modifie chimiquement lorsqu'il est exposé à la lumière, ce qui lui permet de prendre la forme du motif projeté. Le procédé commence par le dépôt d'une couche de polymère sur la surface sur laquelle le circuit sera construit. La couche de résine photosensible est constituée d'un film photosensible qui a été appliqué sur un substrat. L'étape suivante du processus de photolithographie consiste à créer un masque (appelé réticule) sur le substrat qui contient les circuits à créer. Le masque est créé à partir d'un dessin utilisé par l'unité de photolithographie. Pour projeter les circuits sur les couches de photorésist, le masque est aligné sur la couche de photorésist et une série de sources lumineuses sont utilisées pour exposer le matériau de photorésist. TOKYO ELECTRON L'appareillage de la machine de Tokyo est optimisé pour l'illumination des photorésistes. Il assure une transmission efficace de la lumière sur toute la surface et une exposition uniforme à la résine photosensible. Ce procédé conduit à une réplique précise du motif de masque sur la résine photosensible. Une fois le processus d'exposition terminé, on développe la résine photosensible qui aboutit à une couche opaque. Ce masque de résine photosensible est ensuite conservé tel quel et utilisé pour graver le circuit sur le substrat. Pour compléter les motifs de circuit, une gravure sèche ou humide est utilisée pour graver le motif sur le substrat. Le procédé de gravure est effectué soit avec une solution chimique qui élimine les zones exposées, soit avec un outil mécanique tel qu'un gabarit ou un foret pour couper le matériau. Après gravure, le masque de résine photosensible est enlevé, d'où le motif de circuit terminé sur le substrat. Cet outil offre des résultats fiables, précis et reproductibles car il assure une exposition uniforme de la résine photosensible, permettant de créer des motifs précis et précis. C'est un processus hautement efficace et automatisé qui est utilisé dans la fabrication de systèmes électroniques dans l'industrie électronique.
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