Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293595663 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 293595663
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Coater / Developer systems, 12" 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON (TEL/TOKYO ELECTRON) est un équipement de photorésistance conçu pour permettre la fixation précise de couches minces de photorésist sur différents substrats et permettre des applications de lithographie, gravure et écriture directe. Le système utilise une source d'exposition à la projection et à la diffusion, ainsi qu'une unité formant film liquide, appelée unité spin-coat, pour contrôler la dissolution et le dépôt du matériau photorésistant. La source d'exposition crée des faisceaux lumineux focalisés du spectre ultraviolet (UV) requis, qui sont dirigés sur un pare-brise à quartz. Après passage dans cette lentille, la lumière UV est filtrée par deux diffuseurs avant d'arriver à la surface du film de résine photosensible. La machine de photorésistance est conçue pour permettre la fixation précise de couches minces de photorésist sur une gamme de substrats. Cela inclut le silicium, le verre, la céramique, le plastique, le cuivre et l'aluminium. L'outil a également la capacité de traiter un certain nombre de dispositifs semi-conducteurs, y compris les mémoires DRAM et DRAM-cache, les capteurs d'image CMOS, et MEMS. La projection et l'exposition diffuse créées par l'actif peuvent avoir une résolution aussi faible que plus de 1 μ m. Cette faible résolution permet des nano-motifs plus petits avec une grande précision, ce qui est important lors de la fabrication de l'appareil. Le modèle est complété par l'unité spin-coat. Cette unité est responsable du dépôt et de la dissolution du film de photorésist et permet un dépôt de film régulier sur le substrat. L'ensemble spin-coat applique la résine photosensible par une technique de filage assistée par air ou vide. L'équipement de résistance photosensible TEL Metrous est très avancé et a prouvé sa capacité à traiter efficacement et avec précision une gamme de substrats. Ce système permet aux entreprises de fabrication d'appareils de développer des appareils de lithographie, de gravure et d'écriture directe de haute qualité avec une haute résolution et une efficacité accrue.
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