Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293595668 à vendre en France
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ID: 293595668
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Coater / Developer system, 12"
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON (TEL/TOKYO ELECTRON) est un système de photorésist avancé conçu pour aider les fabricants à graver des détails dans des surfaces avec un minimum de déchets et des coûts réduits. Il utilise la lumière ultraviolette (UV) et visible (VIS) pour illustrer des motifs complexes sur une variété de substrats dont GaAs, SiO2, SiN et plus encore. Le système est composé de plusieurs composants, dont une source lumineuse, une optique, un rétroviseur et une unité de lithographie. La source lumineuse est un laser UV/Visible (U/V) de haute puissance qui a une excellente résolution en longueur d'onde, améliorant grandement sa précision et sa fidélité, tandis que son optique est conçue pour projeter une image uniforme. Le miroir de direction, qui est un dispositif automatisé très sensible, est relié à la lentille pour assurer une projection précise du motif sur le substrat. Lorsque la source lumineuse et l'optique ont été correctement configurées, une photorésist est appliquée sur le substrat à imager. Les photorésistes sont un type particulier de produit chimique qui est sensible aux UV et à la lumière visible et qui subit une réaction chimique lorsqu'il est exposé. Après avoir exposé la résine au laser, le motif désiré peut être développé et la résine est ensuite nettoyée, laissant derrière elle le motif de gravure désiré. L'utilisation de TEL Metrous dans les opérations de photolithographie offre des avantages significatifs par rapport à la photolithographie traditionnelle. Il est plus rapide, plus précis et peut projeter un motif de résolution beaucoup plus élevé que la photolithographie conventionnelle. En outre, il est moins cher, utilise une quantité beaucoup plus faible de photorésist et d'autres consommables et est beaucoup plus propre puisque la photorésist s'évapore au lieu d'être rayé. TOKYO ELECTRON (TOKYO ELECTRON) est un système de photorésist haute performance qui peut être utilisé par les fabricants pour graver des motifs complexes sur des substrats plus précisément et économiquement que la photolithographie traditionnelle. Il est polyvalent, fiable et peut produire un motif à haute résolution avec un minimum de déchets de résine photosensible et d'autres consommables. En tant que tel, c'est un choix idéal pour la production en grand volume de substrats avec des motifs complexes utilisés dans diverses industries.
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