Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293610403 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 293610403
Taille de la plaquette: 8"-12"
Coater, 8"-12" Inline: 150 WPH Craft: Immersion, ArF, KrF, i-line Substrate: Si, glass.
TEL/TOKYO ELECTRON (TEL/TOKYO ELECTRON) est un équipement de traitement de photorésist qui offre des performances supérieures dans une gamme d'applications de lithographie avancées. Il dispose d'un système entièrement automatisé et intégré, permettant aux utilisateurs de configurer facilement un seul outil pour traiter diverses structures de plaquettes avec différents matériaux photorésistants. L'unité utilise une machine d'exposition optique de nouvelle génération, ou NEXTGen, pour exposer la photorésist à la lumière à une fréquence régulée pour une précision de mesure améliorée jusqu'à 0,4 μ m lignes et espaces. L'outil est conçu pour intégrer facilement des photomasques, des steppers et des scanners afin de permettre une flexibilité optimale dans la conception des dispositifs de fixation et des circuits. Les capacités de manutention avancées des plaquettes de TEL Metrous permettent en outre des transferts de substrat fluides et efficaces des ports de chargement au traitement. L'actif est conçu pour un meilleur contrôle des rendements et un meilleur rapport coût-efficacité. Il utilise un modèle avancé d'uniformité des substrats (SUS) pour la sensibilité aux défauts et maximise le contrôle du rendement avec une variance minimale de l'uniformité dépendante de la partie du champ. En outre, l'équipement utilise une pluralité de films PR avancés qui nécessitent peu de wafer warpage tout en permettant l'imagerie haute résolution. Les fonctionnalités innovantes de TOKYO ELECTRON De plus, la réduction des coûts au niveau des plaquettes est également envisagée. Il est conçu de manière à ce qu'un système de lithographie unique puisse gérer diverses étapes de processus et résister aux films, éliminant le besoin d'investissements supplémentaires en mainframe et logiciel. En outre, il minimise les coûts opérationnels en combinant un contrôle efficace de la résine photosensible et des ingrédients de gravure. Au cours de sa longue histoire, l'unité de photorésistance de l'entreprise a toujours offert des solutions fiables, rentables et efficaces pour les procédés de lithographie avancés. Ses caractéristiques innovantes et ses systèmes embarqués perfectionnés équilibrent efficacement les coûts et les performances pour garantir un meilleur contrôle des rendements et un meilleur flux de processus. Sa machine intégrée hautement automatisée élimine le besoin d'investissements multiples, simplifie la charge de travail et crée un avantage de performance pour la fabrication d'appareils.
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