Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293671305 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photorésistance utilisé dans les applications de lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'un film de résistance créé à partir du mélange de composés photocurables et d'un milieu photostable tel qu'un solvant organique. Il est le plus couramment utilisé pour les motifs semi-conducteurs, y compris les circuits intégrés et les MEMS. La première étape du procédé consiste à revêtir le substrat du film de résine. Le film est préparé à l'aide d'un spin-coater qui tourne à grande vitesse pour étaler la résistance uniformément sur l'ensemble du substrat. La résine est ensuite imagée à l'aide d'une lumière ultraviolette ou d'un autre rayonnement électromagnétique, selon le type de résine utilisé. Après exposition de l'image, on la développe en éliminant la résistance exposée avec un solvant. Ceci révèle le motif de la couche de travail sur le substrat. Le système de résines est extrêmement sensible à la lumière ultraviolette et sa composition chimique assure sa stabilité dans des conditions difficiles. Son adhérence supérieure élimine les risques d'endommagement du substrat et minimise la contamination. L'unité a également la capacité de détecter avec précision les défauts et la capacité de traiter de grands motifs. Cela le rend idéal pour des processus de fixation très denses et orientés vers la précision. L'excellente stabilité de la machine assure la cohérence des largeurs et des formes sans rétrécissement ou expansion dans le temps. Le film de résine étant sensible à la lumière ultraviolette, il peut également être utilisé pour examiner des échantillons en plaçant un échantillon sur le film. Cela lui permet de détecter des défauts aussi petits que 0,1 µm ou de mesurer les tailles des fonctionnalités avec une précision de 0,01 µm. Il peut également détecter des hauteurs de caractéristiques de différentes couches avec une précision de seulement 0.001nm. L'outil de résistance est également capable de traiter des structures à haut rapport d'aspect dont l'épaisseur peut être aussi faible que 1nm. Ceci en fait un choix idéal pour les structures gravées, en particulier dans la lithographie semi-conductrice moderne. La combinaison de la sensibilité et de la stabilité de l'actif le rend couramment utilisé dans un large éventail d'applications allant de la lithographie de wafer aux structures MEMS émergentes et aux structures d'emballage avancées. Le modèle est également utilisé en métrologie en raison de sa haute performance et de sa répétabilité. TEL Metrous est un équipement photorésist unique utilisé dans les projets de semi-conducteurs et de MEMS. Sa capacité à résister à des conditions environnementales difficiles, son excellente adhérence et sa précision en font un choix idéal pour les procédés de lithographie et les applications de métrologie. Avec l'émergence de la fabrication et de l'emballage MEMS avancés, le système de résistance est devenu un outil essentiel pour créer les modèles détaillés nécessaires à ces technologies émergentes.