Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293793614 à vendre en France

ID: 293793614
Taille de la plaquette: 8"
(5) Coater / (5) Developer system, 8" Coater cabinet Developer cabinet Dual block ASML AT 850D Interface type SHINWA THC Cup (4) Loadports with FOUP Capable Carrier type: RFID Barc: (2) Cups (3) Nozzles per cup Pump type: RGEN2-4CC Pump Filter: 0.02 µm Solvent filter: 0.05 µm Resist: (3) Cups (7) Nozzles per cup Pump type: RGEN2-4CC Pump AMC Valve Filter: 0.02 µm Solvent filter: 0.05 µm (5) Developer cups NLD Per cup for developer nozzle (2) Nozzles per cup for DI Water rinse Nozzle per cup for FIRM Supply ENTEGRIS AHUZ0LEM1 Developer ENTEGRIS ABUZOLEM1 DI Wafer (3) Adhesion (11) CLHP (6) CPHP (8) HCP (5) CWH WCPL WEE Power supply: 208 VAC, 3 Phase.
TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photorésistance entièrement automatisé conçu pour les processus de photolithographie de précision. Le système offre une large gamme de fonctionnalités pour résister efficacement au traitement et des résultats de sélection supérieurs. Il est optimisé pour une production à haut débit et profite des dernières avancées de la technologie de lithographie. L'unité permet de traiter jusqu'à huit types de résistances sur de grands et petits substrats en une seule fois, avec un mécanisme automatisé de contrôle d'épaisseur assurant l'uniformité des processus et une grande précision. La machine est constituée d'une source lumineuse, d'un étage optique et d'une plate-forme de positionnement du substrat aligné sur l'étage de masque. L'étage optique comprend un outil d'alignement de précision et un pas utilisé pour déplacer le substrat. La source lumineuse est responsable de fournir la lumière de la longueur d'onde et du niveau d'intensité requis et est capable de processus de lithographie standard et avancés. L'actif dispose d'une gamme de fonctionnalités avancées, y compris un module spécial multi-couches, de traitement de résistance et un convoyeur personnalisé qui traite automatiquement les substrats de grande surface. Le modèle de positionnement automatique des plaquettes est intégré avec un scanner optique unique et un équipement de nettoyage intelligent. Il est également équipé d'un étage de masque motorisé, d'un système de vide intégré et d'une fonction d'auto-réglage. L'unité offre une excellente protection contre la contamination et est remplie d'un gaz de protection spécial pour assurer un entretien à long terme. Il est conçu avec une interface utilisateur simple et un écran tactile, permettant des réglages rapides et précis des paramètres. La machine a également une conception à faible vibration, éliminant partiellement le besoin d'amortissement des vibrations. Les fonctions de photo-alignement, de focalisation et de focalisation sont intégrées dans l'outil pour obtenir des résultats de mesure supérieurs. L'atout est rapide et efficace, offrant aux opérateurs des performances et une flexibilité inégalées. Il est compatible avec une large gamme de photorésistes et est conçu pour répondre aux besoins d'une grande variété d'industries. C'est un moyen idéal pour optimiser les processus de photolithographie, améliorer le débit et maintenir une précision supérieure.
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