Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #293829891 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON (TEL/TOKYO ELECTRON) est un équipement photorésistant de nouvelle génération qui fournit des solutions de fixation intégrées pour des technologies de pointe exigeant des structures complexes à l'échelle nanométrique. Le système utilise un faisceau laser de moins de 100nm de longueur caractéristique, permettant la création de motifs photorésistants jusqu'à des éléments de taille inférieure à 50nm. La technologie Laser Direct Imaging (LDI) utilisée par TEL De Plus fournit la vitesse maximale et le contrôle au processus de balisage. Une lentille ultra basse ouverture numérique (ULNA) est utilisée avec le logiciel d'exploitation le plus avancé disponible. Cette combinaison donne lieu à une imagerie haute résolution à grande vitesse, avec une dose d'exposition minimale de 0,2 mJ/cm2 seulement. L'unité est également incroyablement fiable, car elle dispose de mécanismes avancés de protection matérielle pour s'assurer que les motifs photorésistants sont exempts de défaut. De plus, la machine possède des caractéristiques de propreté intégrées, telles que la détection de particules, le rejet de poussière et les contrôles d'intégrité de la salle blanche, ce qui la rend idéale pour des environnements complexes. TOKYO ELECTRON Le contrôle précis du faisceau laser de la société de Tokyo permet de minimiser la distorsion de motif. L'outil permet un contrôle rapide du profil sans sacrifier la précision du processus. Il utilise également des algorithmes de rétroaction avancés pour optimiser la mise au point jusqu'au substrat, ce qui conduit à des résultats de processus précis et à une meilleure imagerie avec des temps de développement et de cycle plus courts. L'actif est également équipé de fonctions de maintenance et d'optimisation automatisées, qui permettent une production de masse sans entretien. Ces fonctions peuvent permettre aux utilisateurs de surveiller en permanence les paramètres du processus et de réagir rapidement aux changements. Le modèle supporte également la simulation d'image, afin que les utilisateurs puissent développer des images aériennes parfaites à l'avance au sein de l'équipement d'exploitation. La puissance et la fiabilité de ce système en font un choix idéal pour une application nécessitant des structures nanométriques complexes. L'unité assure le plus haut niveau de précision, de vitesse et de fiabilité, ce qui en fait un équipement indispensable pour toute technologie de pointe qui nécessite des motifs photorésistants de taille inférieure à 100nm.