Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9032288 à vendre en France

ID: 9032288
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2006
Track system, 8", parts machine The tool was used for internal training which parts have been exchanged Missing parts: CSV arm (2) ADH CPHP bake Hard disk 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photorésistance utilisé pour les procédés de photolithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. La photolithographie est une technique d'impression utilisée pour transférer un motif de conception sur un substrat à l'aide de produits chimiques sensibles à la lumière. Le système photorésist est constitué d'une source lumineuse, d'un photomasque contenant le motif de conception et d'un matériau photorésist. La source lumineuse est typiquement un laser UV ou une lampe à arc de mercure. Le photomasque est un morceau de verre, de métal ou de plastique avec un motif, des trous ou des rainures gravés dans elle. La résine photosensible est un matériau sensible à la lumière qui est appliqué sur le dessus du substrat. Lorsqu'il est exposé à la lumière, le photorésist s'active, ce qui provoque sa formation d'une réaction chimique avec le substrat, gravant le motif à la surface. L'unité TEL Metrous est conçue pour améliorer la précision des processus de photolithographie. Il utilise des systèmes de mesure d'électrodes et de détection laser pour améliorer la précision des systèmes photomasques et photorésistants. L'utilisation d'électrodes multiples permet à la machine de détecter toute déformation dans le matériau photorésist, ainsi que toute particule, assurant la précision du motif photorésist. De plus, l'outil de détection laser de précision utilise une précision d'observation simultanée et s'ajuste automatiquement en cas de désalignement et d'erreurs de mouvement au cours du processus. TOKYO ELECTRON est également conçu pour permettre aux circuits de plus petite taille que ceux réalisables avec les procédés de photolithographie classiques. Ceci est réalisé en utilisant le modèle de détection laser de précision et les circuits à microprocesseur disponibles dans l'équipement. Le système de détection laser de précision est utilisé pour détecter la taille, la forme et l'orientation du photomasque et de la photorésist, ce qui permet de créer des caractéristiques extrêmement petites sur le substrat. Les circuits à microprocesseur permettent également d'automatiser les processus de photolithographie, ce qui permet à l'utilisateur de contrôler et d'ajuster les paramètres de sortie tels que la largeur de ligne. Dans l'ensemble, l'unité d "écrou est très précise, automatisée et capable de créer des fonctionnalités de circuit de petite taille. Cela le rend idéal pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs, fournissant des processus de photolithographie efficaces et fiables.
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