Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9105628 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Le matériel de photorésistance est une technologie de traitement lithographique de pointe spécialement conçue pour les applications de lithographie de précision. Ce système utilise une source de lumière ultraviolette (UV) pour créer des motifs sur une plaquette de silicium qui sont ensuite utilisés comme base pour la fabrication de dispositifs. Les composants principaux de l'unité comprennent un matériau photorésist spécialisé, un masque ou une œuvre d'art, et une optique de précision intégrée et une machine d'éclairage. Tous les composants de l'outil ont été conçus et optimisés pour un traitement lithographique de haute précision. Le matériau photorésist est un polymère photosensible qui permet la création de motifs complexes sur une plaquette de silicium. La résine photosensible utilisée dans TEL Metrous Photoresist Asset est un photopolymère réticulé à haute résolution, très sensible à la lumière UV. Cette résine photosensible est enrobée sur une plaquette de silicium et soumise à une opération d'alignement de grande précision avant exposition. Un modèle optique de précision intégré est utilisé pour projeter une œuvre d'art ou un motif de masque sur la photorésist. Cette œuvre est précisément alignée pour s'assurer que les motifs créés par la lumière UV sont dans les tolérances spécifiées par le fabricant du dispositif. L'équipement de photorésistance Tokyo Electron utilise également un réseau de diodes électroluminescentes (LED) pour l'éclairage. Le réseau d'éclairage LED est plus fiable, plus efficace et a généralement une gamme de spectre plus large que les autres sources de lumière utilisées dans la fabrication de microélectroniques. Les LED produisent un faisceau lumineux et uniforme qui est dirigé précisément sur la plaquette de silicium photorésistante. Une fois exposée, la plaquette photorésistante est ensuite soumise à une série de procédés chimiques tels que le développement et la cuisson. Au cours du processus de développement, la résine photosensible est sélectivement retirée des zones non structurées de la plaquette, laissant derrière elle les zones structurées. Le processus de cuisson permet de mieux réticuler la résine photosensible restante, en assurant la dureté ultime et l'isolation électrique des zones structurées. Le Photoresist System fournit une solution de lithographie de précision pour la production de circuits intégrés de haute qualité. Son utilisation de photopolymère haute résolution, d'optique de précision et de réseau d'éclairage LED permet un traitement cohérent à l'échelle des fonctionnalités et la fabrication d'appareils. En outre, sa capacité à produire des motifs complexes avec des tolérances minimales fournit un outil idéal pour la fabrication d'appareils électroniques très complexes d'aujourd'hui.