Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9111798 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement photorésist de nouvelle génération conçu pour offrir des expositions extrêmement précises et fiables de motifs photorésistes. Ce système utilise l'imagerie numérique et les dernières techniques de lithographie avancées pour produire des fonctionnalités d'imagerie extrêmement pointues et à haute résolution pour les procédés semi-conducteurs avancés. L'unité TEL Metrous est conçue pour répondre aux exigences exigeantes du traitement semi-conducteur le plus moderne. La machine dispose d'un outil d'exposition entièrement automatique très fiable qui peut à la fois accepter les modèles définis par l'utilisateur et les modèles natifs générés par la machine. L'utilisateur dispose d'une gamme de paramètres d'exposition (y compris la longueur d'onde, la précision de la longueur d'onde et le temps d'exposition) et les résultats peuvent être ajustés en fonction des exigences du travail. L'actif peut aussi traiter rapidement de grandes images, avec un temps d'exposition de seulement 0,3 seconde, et avec une résolution allant jusqu'à 0,15 µm. Le modèle peut également être facilement intégré à d'autres systèmes optiques, ce qui le rend très utile dans les applications de production à grande échelle. TOKYO ELECTRON Le procédé d'éclairage à la fine pointe de la technique de Tokyo utilise une optique avancée et des paramètres d'éclairage programmables tels que la taille des taches, l'ouverture numérique et la polarisation. Cette combinaison de caractéristiques permet des images photorésistantes optimales, ainsi que des lignes serrées et précises et une densité uniforme de haute qualité dans le motif résultant. Une autre caractéristique clé de l'équipement est le logiciel propriétaire de l'entreprise, qui offre une large gamme de fonctions d'affectation et de manipulation. Le logiciel est également hautement personnalisable et peut être facilement adapté à diverses applications. Il assure également l'enregistrement précis et l'alignement des motifs d'image, ainsi qu'une large gamme de fonctionnalités supplémentaires, y compris la correction d'encoche automatique, la simulation d'exposition multiple et la surveillance des données en temps réel. Le système intègre également plusieurs solutions logicielles qui permettent aux utilisateurs de simuler leur processus d'exposition dans différentes conditions, leur permettant de mieux prédire et optimiser le processus en fonction des besoins du client. Dans l'ensemble, l'unité Photorésist comprend une combinaison d'optique de précision, d'intégration optique, de conception ergonomique, de techniques de lithographie avancées et de technologies logicielles pour produire des images extrêmement précises et fiables pour les dispositifs semi-conducteurs. Les fonctionnalités conviviales, la facilité d'installation et la capacité de fonctionner dans plusieurs environnements différents font de la machine une solution idéale pour le traitement moderne des semi-conducteurs.