Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9112797 à vendre en France
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ID: 9112797
WCPL/TRS Water Controlled Chill Plate Process Stations
Part Numbers:
5087-401690-18 BASE ASSY, MID
5087-401686-17 BASE ASSY, BACK
5087-401687-13 BASE (3P-CPL) ASSY
5085-408087-11 BASE (WCPL) SET, SUPPORT
5085-403233-11 BASE (WCPL) SET, SUPPORT
5085-404679-12 GUIDE (10) ASSY
5085-413028-11 GUIDE (11) ASSY
5085-409705-12 COVER (WCPL) SET
5085-409703-12 COVER (TRS) ASSY
5087-401691-11 PLATE (TRS) ASSY
5087-403214-11 PLATE (TRS) ASSY
5087-403592-14 CWH (HP) ASSY
5087-403596-11 PIN BASE (CWH) ASSY
5087-403633-13 CWH (HP200C) ASSY
5087-403634-11 PIN BASE (CWH200C) ASSY
5085-413143-11 PIN BASE (CWH200C) ASSY
5087-403641-12 CWH (HPB200C) ASSY
5087-403642-11 PIN BASE (CWHB200C) ASSY.
TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photorésistance développé pour permettre la production de masques à haute résolution rentables. Ce système utilise spécifiquement une combinaison d'éclairage ultraviolet profond (DUV) et de technologie automatisée de traitement d'image pour produire des masques précis et à haute résolution. La base de l'unité est l'utilisation de photorésistes, qui sont des couches de matériau qui réagissent à la lumière. Des photorésistances permettent à l'utilisateur de contrôler avec précision l'exposition du matériau à la lumière, permettant ainsi de mettre des motifs sur une surface. Pour assurer la précision, la résine photosensible est appliquée en plusieurs couches, chaque couche présentant des caractéristiques d'absorption et des niveaux d'exposition différents. La lumière est générée par l'unité d'éclairage DUV de la machine de photorésistance, qui utilise des lasers pour projeter des motifs sur les couches de photorésist. L'intensité de la lumière est contrôlée avec précision et précision, et la résine photosensible absorbe la lumière en proportion de ses caractéristiques d'absorption et de ses niveaux d'exposition. Après application de la lumière, la photorésist est développée, et à partir de là, des étapes de traitement convertissent la couche de photorésist préparée en masque avec la conception prévue. Les principaux avantages de l'utilisation de la résistance photosensible TEL sont sa précision et sa répétabilité. Cet atout peut être utilisé pour produire des masques à très haute résolution, avec des caractéristiques aussi petites que 10 nanomètres. De plus, la technologie de traitement automatisé des images permet de s'assurer que les motifs produits sont exacts et reproductibles. TOKYO ELECTRON Le modèle de la résine photosensible de l "écu produit également des masques rentables. Ses lasers peuvent être utilisés pour créer plusieurs masques à la fois, réduisant les coûts de fabrication. En outre, l'équipement produit une utilisation efficace des ressources, ses processus automatisés utilisant un minimum de matériaux et d'énergie. Dans l'ensemble, le système de résistance photosensible fiable et économique permet la production de masques précis et précis. Sa combinaison d'éclairage DUV et de technologie automatisée de traitement d'image garantit des résultats cohérents et une utilisation efficace des ressources. En tant que telle, cette unité est bien adaptée à la réalisation de masques haute résolution pour des applications diverses.
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