Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9185423 à vendre en France

ID: 9185423
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
(2) Coater / (3) Developer systems, 12" Coaters: (8) Resist nozzles With (2) temperature controllers Touch filters for resist / Solvent Mass flow controller Developers: NLD Nozzles With (3) temperature controllers (3) PRD Nozzles Touch developer filter Thermo controller unit (TCU) inside track Single block track (4) Blocks interfaced / Wafer transfer robot arms: Carrier Process Stepper interface main Stepper interface sub (4) Cassette FOUP designs SECSI/II / HSMS / GEM Interface Interface: NIKON S308 (2) Adhesion process stations (ADH) (5) Chill plate process stations (CPL) Transfer chill plate (WCPL) (2) Low temperature hot plates (LHP) N2 Purge capability (6) Precision chilling hot plate process stations (CPHG) Wafer edge exposure system (WEE) Buffer cassette, 3"-6" Hard disk not included Sub components: Temperature / Humidity controller (2) Chemical cabinets AC Power box 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photorésistance utilisé pour le processus d'imagerie dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. C'est un outil avancé pour la création de motifs de circuit avec une résolution extrêmement fine. Le système utilise une combinaison de lumière ultraviolette (UV) et de solvants pour éliminer le matériau photorésist dans les zones projetées d'un photomasque. Les photomasques sont utilisés pour poser un motif de conception sur le substrat et sont extrêmement fins en résolution par rapport à d'autres techniques de lithographie. La photorésist, matériau photosensible appliqué sur le substrat, est utilisée pour graver le motif sur la plaquette ou la planche. Le matériau résineux est ensuite éliminé chimiquement du substrat à l'aide de solvants pour révéler le motif. L'unité TEL Metrous est conçue pour permettre un contrôle précis du processus d'exposition à la résistance. Il dispose d'une machine en boucle fermée pour détecter avec précision la fin du processus, et comprend un outil de contrôle avancé pour ajuster automatiquement la surface du substrat pendant le processus d'exposition à la résistance. L'actif offre également plusieurs avantages. Il est incroyablement rapide, avec un temps d'exposition de seulement 2,6 secondes pour une plaquette pleine longueur. Il a un impact thermique très faible, de sorte que les dispositifs semi-conducteurs ne subissent aucun effet indésirable du processus d'exposition. Il est également conçu pour la compatibilité avec une large gamme de matériaux photorésistants, de sorte que le modèle peut être utilisé pour le développement de motifs d'extrême résolution. En plus de ces caractéristiques, l'équipement TOKYO ELECTRON D est très efficace. Il offre un faible besoin en puissance et un débit élevé, permettant la production de nombreux appareils en peu de temps. Il a également un faible coût de maintenance, car le système nécessite une maintenance minimale tout en produisant des résultats de haute qualité. L'unité d "écrou est un choix idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs en phase initiale et au niveau de la production. Sa technologie d'imagerie avancée et sa large compatibilité avec les matériaux photorésistants en font un choix optimal pour le développement et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe.
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