Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9235183 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 9235183
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
System, 12" 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement photorésistant développé par TEL Ltd, un fournisseur leader de produits de lithographie et de fabrication. Ce système est conçu pour faciliter la production, les essais et l'imagerie de dispositifs, de supports et de composants microélectroniques. L'unité se compose d'un ensemble de composants qui sont utilisés en conjonction avec une variété de procédés de gravure. Le composant principal de la machine est TOKYO ELECTRON Revenant Photoresist (TERP), qui est utilisé pour déposer du matériau photosensible sur un substrat en silicium. Le TERP est conçu avec un degré élevé de précision photolithographique, fournissant des capacités de micro- et nano-imagerie précises. La résine photosensible est ensuite exposée à la lumière ultraviolette (UV), ce qui aide à activer la résistance et à la transformer en un film absorbant, permettant l'empreinte de motifs complexes micro et nano-échelle. La résine est ensuite exposée à une température de séchage élevée, ce qui durcit la résine, la rendant résistante à la gravure. L'outil comprend également une variété d'outils et de processus de gravure. Il s'agit notamment des processus de gravure de la courbe gaussienne et de la courbe de la cloche, ainsi que des techniques de gravure par pulvérisation et de gravure ionique réactive (RIE). Le procédé de gravure gaussienne implique l'application d'un agent de gravure en phase vapeur à une température et une pression appropriées. Ce procédé décolle la résistance exposée avec un processus de déparaffinage contrôlé. Le processus de gravure de la courbe de la cloche est une méthode alternative qui implique l'application d'une gravure de pulvérisateur, et utilise un bombardement ionique d'énergie plus élevée pour graver la résine photosensible. Le procédé de gravure des pulvérisateurs utilise un actif sous vide pour déposer des atomes de métal sur le substrat, et le procédé RIE complète le processus de gravure en utilisant une source agressive d'ions pour graver les motifs dans le substrat. Le modèle comprend également une variété de composants de test et d'imagerie. Il s'agit notamment de systèmes robustes d'inspection des plaquettes et de détection des défauts, et de techniques d'imagerie optique avancées pour l'imagerie complète du dispositif microélectronique. Tous ces éléments sont nécessaires à l'assurance de la qualité du produit et au respect des normes de qualité les plus élevées. En fin de compte, TEL Metrous fournit un équipement de photolithographie complet, conçu pour permettre une micro-imagerie et une nano-imagerie précises pour la production d'appareils et de composants microélectroniques de haute qualité. Le système fournit une solution d'imagerie fiable et robuste, avec une large gamme de capacités de gravure et de test. C'est une solution parfaite pour toute organisation qui cherche à produire des composants et des produits microélectroniques de haute qualité.
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