Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9252496 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Isemblus est un équipement de photorésistance conçu pour l'exposition directe aux UV dans les applications de photolithographie. Ce système utilise des sources de LED UV pour atteindre des expositions à haute résolution, ainsi que pour rendre possible des temps d'exposition dans la plage microseconde pour obtenir un traitement à haut débit. L'unité dispose également d'une interface tactile conviviale, permettant un réglage facile du programme et la surveillance des paramètres de photolithographie. La machine photorésist est composée de composants qui travaillent ensemble pour préparer des substrats pour la microfabrication. Il dispose d'une plate-forme de lampe UV, d'un outil pas à pas haute résolution et d'une résistance aux UV. De plus, l'actif utilise une lentille de zoom haute vitesse et haute résolution pour focaliser la source lumineuse. La lampe LED UV a une longue durée de vie et peut être réduite en fonction de l'application. En outre, la lampe peut être refroidie pour l'entretien et une transmission LED UV plus longue. Le modèle de lentille zoom offre une résolution limitée par diffraction et offre une large gamme de configurations de pas et de répétition. Il dispose également d'un équipement de focalisation automatique qui maintient la lumière focalisée sur le substrat tout au long du processus d'exposition. La précision du système pas à pas est essentielle pour réaliser la microfabrication. Cette unité peut être réglée et surveillée grâce à l'interface tactile conviviale. Il offre une gamme de configurations d'exposition, des prises de vues uniques aux séries multi-exposition. De plus, cette machine fait tourner les substrats par ultrasons et est capable de manipuler des substrats jusqu'à 360 mm carrés. Enfin, l'outil de photorésistance utilise une résistance au positif amplifiée chimiquement. Cette résistance est conçue pour être sensible à la lumière UV et fournir la précision dans les motifs désirés. Par amplification chimique, on entend qu'il peut résister à une gamme d'énergies d'exposition dues à des réactions secondaires favorisant sa solubilité. Ces réactions secondaires, cependant, sont également la source de sous-cotation indésirable, conduisant à des schémas indésirables et imprévisibles. Ensemble, l'actif photorésistant TEL Metrous combine des commandes pas à pas de précision, un éclairage LED UV, un modèle de zoom avancé et des résistances à tonalité positive amplifiée chimiquement pour fournir une plate-forme efficace pour le traitement de la photolithographie haute résolution.