Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9296906 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Lithius
ID: 9296906
Taille de la plaquette: 12"
Coater / Developer system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photorésistance, conçu pour la production de matériaux semi-conducteurs. Le système est utilisé pour graver des motifs dans une plaquette semi-conductrice afin de créer de minuscules caractéristiques ou composants sur sa surface. L'unité utilise un 'masque' contenant un motif pré-sélectionné qui est placé sur la plaquette. La plaquette est ensuite exposée à un rayonnement de haute intensité, généralement UV, de sorte que le motif se transfère sur sa surface. Le processus de transfert du motif est connu sous le nom de lithographie, et TEL Metrous utilise une approche unique de « lithographie par faisceau d'électrons ». Ceci implique que le faisceau d'électrons soit focalisé et dévié par une série de plaques de déflecteur photoélectrique sur l'échantillon, pour permettre à une quantité précise de rayonnement d'atteindre la plaquette. Cela crée moins d'atomes à la surface, réduisant le temps de gravure nécessaire. La machine est capable de fournir une gravure ultra haute précision, capable de créer des caractéristiques aussi petites que 0,012 microns sur une surface de 36 x 36 mm. Comme le faisceau peut être dirigé avec une très grande précision, ce processus très précis permet également de créer des caractéristiques avec des formes complexes, voire arquées. Le niveau de la résine photosensible peut être ajusté pour obtenir des caractéristiques de différentes tailles. Le rapport signal sur bruit est également réglable, ce qui permet de mieux contrôler le motif et de travailler avec n'importe quelle épaisseur de film pour produire des résultats à haute résolution. L'outil dispose également d'un filtre d'électrode unique qui offre une haute résolution et des performances uniformes. La faible conception de maintenance de TOKYO ELECTRON Isemblus garantit la fiabilité, permettant une production continue de haute qualité pendant de longues périodes. Il offre des temps d'exposition courts, ce qui le rend idéal pour une production à cycle rapide, et le contrôle élevé du processus assure une gravure très fine et cohérente. La technologie de gravure de précision des semiconducteurs est très précise et fiable. Il permet une très haute résolution et une meilleure homogénéité, ce qui en fait l'un des systèmes les plus adaptés à la réalisation de circuits intégrés et autres dispositifs nanotech.
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