Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9308715 à vendre en France

ID: 9308715
Taille de la plaquette: 12"
(2) Coater / (3) Developer systems, 12" Single block for NSR S308 (4) Blocks interfaced: Carrier Process Stepper interface main Stepper interface sub (4) Wafer transfer robot arms: Carrier Process Stepper interface main Stepper interface sub (4) Cassettes FOUP Design SECSI/II, HSMS and GEM Interface required IUSC Interface is to NSR S308 (2) Coaters (COT) (4-8) Resist nozzles with temperature control per coater One touch filter For resist and solvent Mass flow controller (3) Developers (DEV) NLD Nozzles with temperature control per cup (3) PRD Nozzles Developer One touch developer filter Thermo Controller Unit (TCU) Inside track (2) Adhesion Process Stations (ADH) (5) Chill Plate Process Stations (CPL) Transfer Chill Plate (WCPL) (2) Low Temperature Hot Plate (LHP) N2 Purge capability (6) Precision Chilling Hot Plate Process Stations (CPHG) Wafer Edge Exposure system (WEE) Interface block Single pincette wafer transfer with centering guides For standard wafer arm and interface panel to accommodate Buffer cassette, 3"-6" Subcomponents: Temperature Humidity controller (2) Chemical cabinets AC Power box.
TEL/TOKYO ELECTRON Isemblus fournit un équipement de traitement lithographique avancé et fiable utilisé pour développer des motifs photorésistants. Les photorésistes sont des matériaux utilisés dans les procédés lithographiques pour produire des motifs dans des matériaux tels que les métaux, les plastiques, la céramique, les semi-conducteurs et autres. TEL Metrous propose un système de traitement intégré qui permet de développer des photorésists sur une grande variété de matériaux. Des photorésistes sont appliqués à la surface d'un matériau par enrobage de spin, puis sont exposés à la lumière de différentes longueurs d'onde et intensités afin d'éliminer ou de durcir sélectivement la photorésist. Le motif gravé obtenu est généré en fonction de l'exposition à la lumière et de la cristallisation des photorésistes. Les photorésistes peuvent également être modélisés à l'aide d'un photomasque, qui est un média émetteur de lumière modélisé, ou d'un motif généré par ordinateur programmable. Cette unité est conçue pour traiter un large éventail de matériaux, y compris des plaquettes de silicium, des plaques de verre, des polymères, du papier et des produits textiles. Le substrat exposé est ensuite développé à l'aide de diverses solutions qui enlèvent ou durcissent la résine photosensible exposée sur le substrat avec une grande précision. Le résultat est un substrat modelé avec des caractéristiques précises et une haute qualité de surface. Cette machine dispose d'un alignement automatisé et d'un mécanisme d'étalement de film unique qui garantit que les photorésistes sont appliqués avec précision et uniformité sur le substrat. Il dispose également d'une chambre de processus innovante avec exposition réglable et température constante pour créer des résultats cohérents. Les contrôles des actifs à bord permettent également de définir une gamme de paramètres incluant les temps d'exposition, la longueur d'onde de la lumière et la vitesse d'obturation pour obtenir les résultats les plus efficaces. Le modèle comprend également un équipement de surveillance complet pour garantir des résultats reproductibles. TOKYO ELECTRON Le système de résines photosensibles de Tokyo est conçu pour être l'un des systèmes de traitement lithographique les plus fiables et les plus perfectionnés disponibles qui fournissent des résultats fiables et reproductibles. Il est spécifiquement conçu pour permettre le traitement automatisé de divers matériaux avec précision et des résultats fiables.
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