Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9355520 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photolithographie qui utilise un revêtement photorésist spécialisé pour transférer des motifs de dispositifs sur une plaquette ou un substrat. La photolithographie est un processus d'exposition d'une zone spécifique d'une couche mince de matériau photorésistant à la lumière ultraviolette, ce qui rend le matériau exposé plus sensible chimiquement. Ceci permet l'élimination chimique du matériau exposé pour former des motifs dans la couche de résine photosensible. Le système de photolithographie TEL de la Société utilise un procédé de revêtement avancé pour créer des caractéristiques et des motifs complexes à l'échelle des micro- et des nanomètres sur un large éventail de substrats. La première étape du procédé de photolithographie est de revêtir un substrat d'un film de photorésist. Un distributeur crée une couche uniforme de résine photosensible sur le substrat et aligne automatiquement le motif à créer. La photorésist est exposée à la lumière ultraviolette par l'intermédiaire d'une unité optique complexe (SITEX). La lumière ultraviolette qui émet à travers le masque est dirigée vers la résine pour créer le motif désiré. Par la suite, la résistance exposée est développée, éliminant la matière exposée pour former des motifs. Le substrat développé est ensuite traité, lavé, et les motifs sont photorésistants processus sont encore réduits avec la machine SITEX. En plus de créer des caractéristiques micro- et nanométriques, l'outil de photolithographie TOKYO ELECTRON (Tokyo Electron) permet également d'utiliser des matériaux à haute résolution pour créer des modèles de dispositifs à haute densité. L'actif utilise également des systèmes avancés d'automatisation et de surveillance des processus pour le contrôle de la qualité ainsi qu'un large éventail de substrats et résiste pour réduire efficacement les coûts. Le processus de photolithographie à l'aide du virus de l'ozone est essentiel à la fabrication et à la mise en oeuvre de dispositifs semi-conducteurs. Les photorésistes permettent un contrôle très rapide et précis de la quantité de matière enlevée, ce qui en fait l'outil principal pour la finition. Le modèle permet de contrôler la taille des fonctions et d'autres paramètres lithographiques critiques nécessaires à la création de dispositifs semi-conducteurs complexes. L'équipement est utilisé pour la fabrication de transistors, de circuits intégrés, de puces mémoire, de microprocesseurs complets et d'autres types de composants électroniques.