Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9378255 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON est un équipement de photorésistance utilisé pour le traitement de résistance dans l'industrie des semi-conducteurs et de la microélectronique. Le système permet de modéliser en haute résolution la métallisation, l'isolement et d'autres caractéristiques jusqu'à des largeurs de ligne ultra fines de 0,12 µm. L'unité est composée de trois composants principaux : une machine à enrobage photorésist, une unité d'exposition et une plaque chaude pour le développement de films photorésist. La machine de revêtement de spin photorésist est utilisée pour enrober uniformément une couche mince de photorésist sur un substrat. Cette couche mince sert de masque pour la gravure ultérieure. Le spin coater peut être programmé pour tourner à différentes vitesses et directions selon l'épaisseur de couche désirée et l'uniformité du revêtement. L'unité d'exposition à la photolithographie utilise la lumière UV pour durcir la résine photosensible dans les zones du substrat où la lumière UV touche. Ceci permet de former des motifs précis puisque la lumière UV peut être dirigée dans la forme désirée. L'unité d'exposition est typiquement soit un seul photomasker, soit un photoaligneur capable d'exposer les deux faces du masque. Le masqueur utilise un seul réticule tandis que l'aligneur utilise des réticules doubles pour l'exposition au niveau des plaquettes. La plaque chaude est le composant final de la machine et sert à la cuisson puis au développement de la résine photosensible. Au cours de ce processus, la résine photosensible est chauffée et exposée à une solution de révélateur, qui élimine la résine photosensible dans les zones exposées pour former un motif. Les plaques chauffent généralement jusqu'à 200 ° C, ce qui est nécessaire pour conduire la réaction chimique. Dans l'ensemble, TEL Metrous est un outil efficace pour la photorésistance complexe. L'atout fournit une haute résolution ainsi qu'une programmation simple pour permettre la flexibilité de l'utilisateur. En combinant les trois composantes de revêtement, d'exposition et de cuisson à chaleur/développement, le modèle obtient la formation de motifs avec une haute résolution et une excellente uniformité. Cela permet de créer des dispositifs semi-conducteurs et microélectroniques de haute qualité avec des détails fins.