Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9098385 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 est un équipement photorésist entièrement automatique conçu pour être utilisé dans le traitement avancé des dispositifs semi-conducteurs. Il convient à des applications telles que la lithographie, la photolithographie, le nettoyage des plaquettes et d'autres traitements de photomasques. Le système dispose d'un bras optique entièrement automatisé et d'une caméra CCD pour contrôler avec précision les paramètres d'exposition en ajustant la focalisation et en s'alignant sur la surface de la résine photosensible. Il est équipé d'un appareil photo numérique haute résolution pour mesurer les performances d'imagerie des photomasques à plusieurs positions. De plus, l'unité dispose d'une machine de contrôle de la taille des grains pour assurer le bon traitement des appareils sur divers types de photomasques. L'outil est conçu pour le traitement avancé des dispositifs semi-conducteurs avec contrôle du processus et cohérence. Il dispose d'interfaces de contrôle conviviales pour la mise en place rapide d'expériences, l'ajustement des paramètres et la monétisation des progrès. En outre, l'actif dispose d'un modèle statistique de contrôle de la qualité pour effectuer un entretien prédictif afin d'assurer une performance optimale. L'équipement de photorésistance TEL MARK8 offre une grande uniformité d'exposition et des résultats alignés verticalement pour assurer des rendements de processus et prolonger la durée de vie des photomasques. En outre, sa compatibilité avec tous les photorésistants garantit une flexibilité maximale, permettant aux utilisateurs de traiter une large gamme de substrats et de matériaux. De plus, ses capacités de traitement à basse pression et sous vide assurent un fonctionnement sûr et efficace, minimisant les risques de dommages au substrat ou aux photomasques. En conclusion, TOKYO ELECTRON MARK-8 photoresist system est conçu pour le traitement avancé des dispositifs semi-conducteurs. Il fournit des niveaux élevés d'uniformité d'exposition et de contrôle de l'exposition, assurant des rendements de processus et des durées de vie des photomasques. Ses interfaces conviviales, sa compatibilité avec tous les photorésistes et son traitement à basse pression et sous vide assurent un fonctionnement sûr et efficace.