Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9109451 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8
ID: 9109451
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
(2) Coaters / (2) Developers System, 8" 8HP/6CP/2AD/1WDS/1WEE 2-1 RRC x2 2-2 RRC x2 THC C/B (buffer tank x4) Komatsu M/A x2 I/F Canon 3000iW RtL 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment est conçu pour le traitement avancé des photorésistances dans la fabrication des plaquettes. Il fournit une photolithographie de précision pour les procédés de fabrication de plaquettes dans l'industrie des semi-conducteurs. TEL MARK8 Photoresist System utilise un alignement de masque haute résolution pour aligner et exposer des films de photorésist sur la surface de la plaquette. Il est équipé d'un laser haute vitesse pour assurer un alignement précis du photomasque sur la plaquette. L'aligneur dispose également d'une capacité d'alignement automatique de pulvérisation avec une plage de pas réglable pour répondre aux exigences des différentes conceptions de plaquettes. Le matériau photorésist est maintenu dans un réservoir qui peut être conçu pour convenir à la taille de la plaquette. Le matériau est pompé dans une chambre de chaleur qui est chauffée à la température requise puis transférée à un poste de filature. La photorésist est filée sur la plaquette à une vitesse contrôlée pour former une fine couche de photorésist. Dans le même temps, la photorésist est exposée à la lumière ultraviolette de l'aligneur de masque et de l'outil d'imagerie directe pour permettre le résultat souhaité. Ce procédé est connu comme exposant la résine photosensible. TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Unit a une fonctionnalité appelée « Multi-layer Photoresist Spray » qui est conçu pour des procédés de fabrication de plaquettes de haute précision. Cette caractéristique permet de pulvériser la résine photosensible en plusieurs couches sur la plaquette. Après pulvérisation et exposition de chaque couche, le matériau est chauffé ou refroidi pour fixer la couche de résine photosensible. La plaquette développée est ensuite transférée à une station de révélation où un révélateur chimique, tel qu'une solution alcaline, est appliqué pour écarter la résine photosensible exposée de la plaquette. Le résultat final est une plaquette propre prête pour le traitement ultérieur. Pour des résultats cohérents, la machine est équipée d'un outil de contrôle de la température et de la pression pour un meilleur contrôle des différentes étapes du processus photorésist. L'actif est également livré avec divers outils logiciels, qui permettent à l'utilisateur de surveiller et de contrôler le processus photorésist du début à la fin. TEL MARK-8 Photoresist Model est également compatible avec une large gamme d'autres équipements de fabrication de plaquettes, assurant une intégration facile des processus de photolithographie dans le processus de fabrication de plaquettes plus vaste.
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