Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9155211 à vendre en France
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ID: 9155211
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1995
Wafer coater, 8"
Carrier station type: Open cassette
Wafer loading type: Right to Left
Software version: MK8H2.78(MC) M8B9083D.00 (Block)
Coater unit:
Pump model: RRC
Nozzle count: 3
Development unit:
Dev nozzle: H-Nozzle
Dev nozzle Count: 2
Up/Down move: Cylinder
Rinse nozzle: Stream
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment est un système de lithographie avancée conçu pour le dépôt et le traitement des photorésistances. Il utilise une technologie avancée de projection de masque qui permet la projection d'un film photorésist microstructuré sur un motif sur une plaquette de silicium. Cela le rend idéal pour des applications telles que les MEMS, les dispositifs optiques et microfluidiques. L'unité est constituée d'un étage de substrat, d'une machine de projection de masque et d'un outil de revêtement de résistance. L'étage de substrat est utilisé pour maintenir le substrat en place et est capable de contrôler la température et l'humidité du substrat. L'actif de projection du masque est le composant principal du modèle et il se compose d'un projecteur laser, d'une optique d'alignement et d'un équipement optique de nettoyage et d'entretien. Le projecteur laser utilise une ligne laser de 327 nm et est capable de projeter un motif haute résolution sur le substrat. L'optique d'alignement est utilisée pour aligner le faisceau laser sur le champ de masque et l'optique fournit un haut niveau de précision pour le motif photorésist. Le système optique de nettoyage et d'entretien aide à éliminer la contamination pendant le dépôt. L'ensemble de revêtement en résine est utilisé pour appliquer le matériau photorésist sur le substrat. La machine utilise un outil de pulvérisation haute pression qui applique une fine couche uniforme de photorésist à la surface du substrat. L'actif de pulvérisation est équipé de plusieurs buses et d'un programme piloté par ordinateur pour assurer le dépôt uniforme et précis de la résine photosensible. TEL MARK8 Photoresist Model a une précision de vie de 15 ans garantie de 0,1 μ m et fournit des résultats fiables et précis. Il convient pour des applications de dépôt photorésist de haute précision. Il a été largement utilisé dans l'industrie pour des applications telles que l'impression 3D, MEMS, optique, et dispositifs microfluidiques.
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