Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9170457 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 est un équipement de photorésistance qui est utilisé pour la gravure photo-lithographique dans la production de composants microélectroniques. Ce système est utilisé pour diverses applications dans différentes industries telles que les semi-conducteurs, le solaire, l'automobile et les télécommunications. Cette unité de photorésistance avancée a deux composants principaux ; l'Imaging and Pattern Generation Machine (IPG) et le Coater/Developer Tool (CDS). L'IPG est un outil de production et de traitement d'images capable de produire des images aériennes à haute résolution pour des composants microélectroniques. Il contient un générateur d'image haute résolution avec des cellules programmables et des motifs de taches qui peuvent ajuster la taille et la forme de l'image pour représenter avec précision le composant. Le processeur a une résolution de 10µm et une taille d'image de 100µm. Le CDS est responsable de l'application et du retrait de la résine photosensible. Il est équipé d'un réservoir chimique et de deux chambres d'évaporation chargées de préenduire chimiquement les composants par une fine couche de résine photosensible. Cette résistance recouvre l'ensemble du composant et masque des zones non destinées à être gravées. Lors du développement du composant, le CDS utilise une technique dite « chimiquement amplifiée » qui augmente la précision et la vitesse en affectant directement les propriétés physiques de la résine photosensible. Ce procédé utilise une combinaison unique de chimie, de chaleur et de lumière qui permet au photorésist de couvrir précisément le composant et de créer un motif avec une précision maximale. Ce modèle de photorésist avancé fournit un niveau élevé de précision et de production fiable de composants microélectroniques. Il a une résolution de 10µm, une taille d'image de 100µm, et est capable de produire des images complexes. Les systèmes IPG et CDS sont conçus pour travailler ensemble pour appliquer avec précision une fine couche de résine photosensible et développer le composant. Cela permet une production plus rapide et plus précise de composants microélectroniques qui réduit le coût et le temps de production. En disposant de ce matériel de photorésistance, il permet de réaliser des pièces plus précises et plus fiables de manière efficace.