Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9215817 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 est un type d'équipement de photorésistance qui utilise des techniques lithographiques avancées pour faciliter la gravure de circuits ou d'autres motifs et formes complexes dans des matériaux de substrat tels que le silicium ou le métal. En effet, le système de photorésistance TEL MARK8 peut être utilisé pour isoler le substrat contre la gravure en ne permettant spécifiquement que la gravure de certaines parties du substrat et en utilisant la couche de photorésist pour protéger d'autres parties du substrat contre la gravure chimique. L'unité de photorésistance TOKYO ELECTRON MARK-8 met en oeuvre un procédé en deux étapes qui commence par le dépôt d'un revêtement très mince de photorésist sur le substrat. Après application de la photorésist, MARK-8 machine expose alors la photorésist à une lumière de longueur d'onde prédéterminée, provoquant ainsi une modification chimique au sein de la photorésist qui lui permet soit de résister, soit de permettre le processus de gravure en fonction de l'épaisseur du revêtement de la photorésist. La gravure à l'eau forte ultérieure d'un dessin dans le substrate est alors réalisée avec le rayon de haute précision se concentrant qui est rendu possible grâce à l'état des technologies d'art employé de 8 MARQUES se photoopposent à l'outil. Les matériaux de substrat peuvent être protégés de la gravure avec une très grande précision, même avec des motifs et des formes complexes tels que ceux que l'on trouve dans les circuits intégrés et les dispositifs microélectroniques. De plus, TOKYO ELECTRON MARK8 offre à l'utilisateur un large choix de solutions photorésistantes, lui permettant d'adapter précisément son application pour obtenir des résultats optimaux. En résumé, TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 est un modèle photorésist haut de gamme qui permet la gravure précise de motifs et de formes complexes sur des substrats tels que le silicium ou le métal. Le processus en deux étapes de dépôt de photorésist et d'exposition à la lumière conduit à une transformation chimique de la couche de photorésist qui permet ou protège contre la gravure, tandis que les capacités avancées de focalisation des faisceaux de TEL Mark 8 assurent que le processus de gravure se déroule avec un très haut niveau de précision. Avec sa gamme complète de solutions photorésistantes, Mark 8 est le choix privilégié pour les utilisateurs à la recherche d'une gravure fiable et de haute précision de leurs substrats.