Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9216280 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 est un système de photolithographie haute performance conçu pour produire des dispositifs microélectroniques de précision. Il utilise une technologie de photorésistance avancée pour modeler rapidement et avec précision les plaquettes semi-conductrices avec de minuscules circuits. TEL MARK8 est équipé d'une machine avancée de balayage de plaquettes qui utilise des balayages laser à double faisceau pour placer et exposer avec précision des pistes de photorésist sur des plaquettes. Le laser balayé a également la capacité d'ajuster la focale, la largeur des impulsions et les niveaux de puissance, permettant un traitement extrêmement précis de la couche de résine photosensible. Cet outil de balayage, combiné à la formulation de photorésist avancée, permet un traitement de photorésist précis et répétable de plusieurs plaquettes simultanément avec un temps d'installation minimal. TOKYO ELECTRON MARK-8 dispose également d'un outil de balayage laser à double faisceau qui est équipé d'une option de correction du motif de lentille supérieure/inférieure qui améliore encore les performances du modèle. Cette fonctionnalité permet au scanner laser de compenser tout affaissement de surface ou déformation de la plaquette due aux températures de traitement ou aux temps d'exposition. L'équipement dispose également d'une suite de gestion de lithographie avancée qui comprend le stockage sécurisé des motifs des plaquettes et le transfert rapide des données entre la plaquette et le système de programme. L'unité TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 est conçue à la fois pour les environnements de production et de recherche et est soutenue par la technologie robuste de soutien continu des processus offerte par TEL. La machine est équipée d'outils conviviaux de gestion de la production et d'analyse automatisée des temps d'exécution qui aident à surveiller et à optimiser les performances de l'outil. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON MARK8 photorésist actif est un modèle avancé de photolithographie pour produire des dispositifs microélectroniques de précision. Il dispose d'un équipement laser à double faisceau pour une précision et une vitesse accrues et d'un système avancé de gestion de la lithographie pour une gestion de la production conviviale. La formulation de photorésist avancée et l'option de correction du motif de lentille supérieure/inférieure offrent des performances supérieures pour la photolithographie répétable de plusieurs plaquettes.