Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9239617 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment est un outil d'exposition avancé qui est capable de fournir des caractéristiques de modélisation haute résolution pour un large éventail d'applications. Ce système de pointe est utilisé dans de nombreux processus de photolithographie, permettant un travail rapide, précis et fiable sur les substrats. L'unité utilise une optique de mini-tableau avancée pour fournir des motifs avec une résolution inférieure à quelques centaines de nanomètres, ce qui la rend idéale pour les processus de lithographie et une gamme d'autres processus avancés. TEL/TOKYO TEL MARK8 est capable de générer des motifs très précis sur des plaquettes, substrats et composants avec précision et fiabilité. Il utilise des systèmes avancés de transfert laser, permettant une exposition fiable des substrats sans générer de contraintes thermiques ou mécaniques. Cette machine de haute précision est capable de fournir des balises jusqu'au niveau du nanomètre. En outre, l'outil utilise la technologie de diffusion de la lumière, qui permet une exposition plus rapide et une meilleure définition précise des motifs. L'actif a été conçu pour fournir une fixation précise des substrats avec un minimum de matériaux gaspillés. Pour ce faire, on utilise un modèle d'ablation avancé. L'ablation est un processus dans lequel un substrat est exposé à un faisceau laser de haute intensité qui élimine le matériau dans les zones à modeler. L'équipement offre également une gamme d'autres fonctionnalités avancées telles qu'un système d'auto-alignement puissant, qui assure que le faisceau reste précisément aligné avec le motif du substrat. TOKYO ELECTRON/TOKYO TOKYO ELECTRON MARK-8 est également très évolutif et évolutif. Il peut être configuré avec les dernières mises à jour logicielles et matérielles, donnant aux utilisateurs la flexibilité de suivre les dernières avancées technologiques. TEL/TOKYO ELECTRON/TOKYO TEL Mark 8 est l'outil parfait pour toutes les exigences de photolithographie. Grâce à sa grande précision et fiabilité, l'unité est en mesure de fournir la structuration nécessaire aux substrats avec facilité et précision. Il est capable de fournir des motifs jusqu'au niveau du nanomètre, assurant des résultats de haute précision. Cette machine est un outil inestimable pour tout laboratoire ou fabricant impliqué dans des processus basés sur la photolithographie.