Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9239619 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment est un outil complet conçu pour fournir un large éventail d'avantages fonctionnels pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce système est une solution de traitement de photorésistance avancée (PR) pour la production de puces à haute vitesse et à haute valeur numérique. Fabriqué par TEL, un fournisseur mondial d'équipements semi-conducteurs, TEL MARK8 est une unité de lithographie entièrement automatisée conçue pour une utilisation avec 193 nm et des sources d'exposition aux ultraviolets profonds. La machine comprend une série de chambres de traitement équipées d'une gamme de composants intégrés de photochimie. Ces composants forment un outil de PR complet capable de réguler les processus de nettoyage, de revêtement et d'exposition pour une variété de types de PR, permettant aux utilisateurs d'optimiser la répétabilité du processus, de réduire les temps de cycle et d'augmenter le rendement des photorésistances. La solution de revêtement avancée déployée dans la plate-forme TOKYO ELECTRON MARK-8 est capable de traiter tous les processus PR existants, y compris les matériaux thermiques et nanométriques. L'outil est conçu pour répondre aux exigences de la R&D avancée et de la production commerciale, fournissant des performances de PR à des tailles de caractéristiques de 14 nm ou moins, tout en fournissant des temps de cycle rapides non réfléchissants et courts. TOKYO ELECTRON Mark 8 peut accueillir une large gamme de caractéristiques de PR, telles que la plage d'épaisseur, le taux de rafraîchissement d'indice de réfraction, les quantités maximales et minimales de solvants, et l'adhésion. Le logiciel modèle est capable de gérer, adapter et suivre activement les entrées PR nécessaires au processus optimal de chaque appareil. En outre, l'équipement offre des algorithmes intelligents de contrôle de la température, un contrôle multicouche de la couche de PR par film ultra-mince, et une gestion supérieure de la contamination, permettant une durée de vie de photorésist prolongée. Mark 8 est également équipé d'un système de métrologie robuste, permettant le contrôle en cours de processus de l'uniformité du revêtement, et d'autres paramètres nécessaires pour les processus photo-chimiques à grande vitesse. L'unité offre plusieurs ports d'accès, permettant une exposition étendue et l'optimisation du processus de PR. Il fournit également une précision éprouvée pour l'alignement des substrats et l'indentation des photorésistances. Cela permet aux utilisateurs d'atteindre un niveau de résolution d'image et de contraste plus élevé qu'auparavant possible. En résumé, MARK-8 machine PR est un outil avancé, complet et convivial conçu pour répondre aux demandes croissantes de l'industrie des semi-conducteurs. Grâce à ses composants intégrés de photochimie, à des algorithmes de contrôle de température supérieurs et à des systèmes de métrologie robustes, les utilisateurs peuvent être assurés que l'actif est capable de fournir une solution de traitement de PR fiable et répétable.