Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9269843 à vendre en France

ID: 9269843
Style Vintage: 1996
(1) Coater / (2) Developer system Left to right AD (7) HP (3) COOL WEE 1996 vintage.
L'équipement de photorésistance TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 est une plate-forme de traitement de photo avancée conçue pour des applications de lithographie sur la ligne de production. Il est conçu pour permettre le dépôt de photorésist à couches minces sur un substrat de dispositif avec un positionnement précis, une clarté et une répétabilité. TEL MARK8 utilise les dernières avancées technologiques pour atteindre sa précision ultra-élevée. Il dispose d'une unité d'autofocus avancée en boucle fermée avec une optique haute résolution qui peut maintenir une focalisation optimale sur le bord d'un appareil. La machine dispose également d'un outil d'exposition multiligne amélioré avec une large gamme de motifs d'éclairage, permettant une facilité d'utilisation et une variété de formes et de tailles d'appareils. TOKYO ELECTRON MARK-8 est également livré avec un outil d'étalonnage intégré pour assurer un alignement optimal du substrat, ainsi qu'une superposition logicielle disponible pour un alignement fin. La plate-forme de traitement de photos offre également des capacités avancées de balayage de films, permettant des contrôles de métrologie précis avant que la plaquette ne soit soumise à d'autres processus. Ceci assure que le substrat du dispositif est de qualité acceptable avant d'entrer dans l'étape suivante du processus de production. MARK-8 est également conçu avec un modèle d'automatisation robuste à son cœur, permettant aux fabricants de l'adopter facilement dans leurs processus de production existants. L'équipement dispose d'une grande vitesse en termes de vitesse de dépôt, et il est le choix parfait pour une large gamme de dispositifs semi-conducteurs, y compris des puces mémoire, des puces logiques et des dispositifs d'affichage. Cela fait du système de photorésistance TOKYO ELECTRON MARK8 une option attrayante pour toute entreprise à la recherche d'une solution fiable de dépôt de photorésistance et de métrologie.
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