Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9276285 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 est un équipement de photorésistance conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. C'est un système de techniques utilisées dans le processus lithographique pour transférer des formes d'un dispositif de fixation ou réticule sur une plaquette. TEL MARK8 est l'unité photorésiste la plus avancée de sa génération, utilisant plusieurs techniques de pointe pour assurer la production la plus fiable des caractéristiques jusqu'à l'échelle nanométrique. La machine est composée de deux composants distincts - un photoaligneur et un outil d'exposition - qui sont tous deux contrôlés par une unité de traitement informatique sophistiquée. Le photoaligneur utilise un actif de balayage laser qui est utilisé pour créer un modèle de modèle avec une résolution très fine de 20 nanomètres ou moins. Ce modèle est ensuite introduit dans le modèle d'exposition, qui utilise une source de lumière UV pour « brûler » les formes sur une plaquette. TOKYO ELECTRON MARK-8 est équipé d'un logiciel de pointe qui permet de contrôler la résolution du processus et de contrôler la qualité de chaque fonctionnalité créée. Il utilise un équipement de correction optique distribué et plusieurs étapes de génération de motifs pour atteindre la résolution constante fine sur un grand nombre de pièces. Le système peut également ajuster des paramètres de processus tels que le temps d'exposition pour compenser les distorsions optiques de l'unité. De plus, TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 utilise deux procédés différents - le processus i-Line et le processus EUV - pour optimiser davantage le processus lithographique. Le procédé i-Line utilise une source de lumière ultraviolette de 13,5 à 13,6 nanomètres pour créer des structures avec des lignes très fines jusqu'à 3 nanomètres de taille. Le procédé EUV dispose d'une source de lumière UV extrême avec une gamme de longueurs d'onde de 13,5 nanomètres et plus court. Ce procédé crée des structures encore plus fines avec une résolution de 0,3 nanomètres. MARK8 est une machine de photorésistance avancée conçue pour permettre une production fiable et cohérente des caractéristiques des semi-conducteurs avec des résolutions nano-échelle. Il utilise plusieurs techniques uniques et avancées pour créer des modèles, ajuster les paramètres du processus et optimiser la lithographie. L'outil peut produire des fonctionnalités avec des résolutions jusqu'à 3 nanomètres avec le processus i-Line, et même une résolution plus fine de 0,3 nanomètre avec le processus EUV.