Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9314251 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance Mark 8 est un système entièrement intégré pour le développement et la création de photorésists. Il fournit la précision et la répétabilité de pointe de l'industrie pour la fixation de structures même délicates avec des rapports d'aspect élevés. L'unité combine du matériel et des composants logiciels de pointe pour fournir une solution complète pour le traitement des résines photosensibles à motifs. TEL MARK8 utilise un étage motorisé avec un entraînement linéaire de précision et un microscope numérique haute résolution pour permettre un positionnement et une manipulation précis du matériau photorésist. Cette étape peut répéter avec précision les motifs et les mouvements pour augmenter le débit. L'étape est pilotée par ordinateur par le logiciel de contrôle, ce qui simplifie la configuration et l'analyse des paramètres du processus. La machine comprend également l'irradiation ultraviolette de précision (UV) et l'optique pour la mise en oeuvre du matériau photosensible. TOKYO ELECTRON MARK-8 dispose d'un moteur de lumière multi-longueurs d'onde avec atténuateur motorisé pour contrôler la dose d'exposition. Le moteur léger dispose également d'un collimateur réglable pour réduire le champ d'exposition et d'un obturateur pour l'exposition en mode d'éclatement. TEL Mark 8 dispose d'un logiciel intégré, qui comprend un logiciel de contrôle de l'exposition et des paramètres optiques, ainsi que des outils standard de visualisation, d'algorithme, de graphisme et d'analyse. La planification des tâches, l'édition des recettes et la gestion des données sont également incluses. Le logiciel est conçu pour répondre aux besoins de production et de recherche de l'utilisateur. TEL MARK-8 est conçu pour être utilisé avec des matériaux photosensibles tels que la résine, l'acrylate et d'autres polymères photosensibles. Il est également compatible avec diverses techniques de traitement telles que le spin, le spray et le revêtement aérosol et peut être utilisé pour le traitement positif et négatif. L'actif a été développé en mettant l'accent sur le contrôle des processus, la précision, la qualité et la rapidité. Cela permet à l'utilisateur d'obtenir de meilleurs résultats dans un délai plus court. Tous ces éléments se combinent pour former un modèle de photorésist avancé capable de produire des motifs précis et reproductibles, même à l'échelle nanométrique. L'équipement de photorésistance Mark 8 offre une solution idéale pour les applications de recherche et de production pour une variété d'industries.