Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9351474 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour fabriquer des dispositifs à plaquettes minces au niveau des sous-microns. Ce système dispose d'une optique d'imagerie avancée et précise qui génère une image focalisée et claire d'un appareil, permettant un alignement cohérent, précis et propre de la photolithographie. De plus, la méthode de longueur d'onde Sub-One de TEL MARK8 est capable de produire des motifs compliqués dans une large gamme de dispositifs dans la gamme sub-micron. TOKYO ELECTRON MARK-8 a trois composants principaux : une entrée de source, une unité de projection optique et un mécanisme de revêtement de résistance. L'entrée de source est compatible avec une variété de sources laser, permettant une gamme de profils d'exposition générés par calcul. La machine de projection optique est le cœur de l'outil et se compose d'une source de lumière UV, d'un scanner optique programmable et d'un objectif d'imagerie. En contrôlant le moment et la direction du faisceau UV, cet atout peut générer des images très précises à des tailles de fonctions de sous-microns. Le mécanisme de revêtement de résistance du modèle dispense de la résine photosensible sur la plaquette à des niveaux extrêmement précis. Grâce à cette précision, la couche de résine est cohérente et uniforme dans tout le dispositif. TOKYO ELECTRON MARK8 possède également plusieurs caractéristiques technologiques avancées. Par exemple, l'équipement de balayage laser et d'exposition est capable de balayage d'exposition en temps réel, ce qui est idéal pour les dispositifs à couches minces. Il peut être utilisé pour des opérations simultanées de lithographie et d'exposition, entraînant un débit plus élevé. En outre, ce système peut analyser rapidement et avec précision les défauts de surface et les dommages aux bords afin de réduire les coûts de post-traitement en éliminant préventivement toutes les régions endommagées. En résumé, TEL Mark 8 est une unité de photorésistance très avancée capable de produire des dispositifs précis avec balayage laser de précision. Grâce à l'optique d'imagerie programmable, à la méthode de la longueur d'onde Sub-One et à d'autres caractéristiques telles que le balayage d'exposition en temps réel, cette machine photorésiste est capable d'aligner des lithographies multifonctionnelles et de réaliser des opérations de revêtement résistantes avec une grande précision et un débit élevé.