Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9364571 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment est un système de photolithographie utilisé dans la fabrication de petites structures telles que des circuits intégrés en silicium. Il est capable d'imprimer une résolution aussi faible que 0,28 microns, permettant la production de composants de taille minimale. L'unité optique de TEL MARK8 est basée sur une machine optique à cinq composants, composée d'une source lumineuse en ligne g (d'une longueur d'onde de 436 nm), d'une lentille d'exposition, d'un outil optique de correction de forme, d'un objectif et d'un réticule qui contient le motif maître. La principale composante de TOKYO ELECTRON MARK-8 est l'actif d'exposition, qui consiste en une source d'éclairage, une lentille optique d'exposition qui dirige la lumière sur la plaquette, une fenêtre d'éclairage et un modèle de mesure d'image (EMS). La source d'éclairage produit des lasers économes en énergie à 435-438nm, qui sont ensuite collectés, collimatés et focalisés sur la plaquette recouverte de photorésist par l'optique d'exposition. La plaquette est ensuite positionnée sur un étage X-Y de déplacement selon l'axe x-y. Pour assurer un contrôle précis de la position, on utilise l'excitation de l'appareil de mesure magnéto-inductif et le système de déviation zéro. Le motif de la couche de résine photosensible qui est transférée à la plaquette est ensuite vérifié pour détecter les erreurs à l'aide de l'unité EMS. La machine EMS utilise des dispositifs à couplage de charge (CCD) pour absorber la lumière réfléchie du motif et crée une carte virtuelle du motif limité à l'aide de méthodes optiques. L'outil TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 utilise des procédés tels que le spin-coating, la pré-cuisson, l'exposition à la lumière laser, la cuisson post-exposition et le développement. Une fois la plaquette enrobée et pré-cuite, elle est ensuite exposée à la lumière laser de la source d'éclairage qui est focalisée sur la surface de la plaquette à l'aide de la lentille optique d'exposition. Après l'exposition, la plaquette est cuite après exposition, suivie d'un processus de développement utilisant du méthanol ou un acide doux pour éliminer la couche photorésiste exposée, laissant derrière elle le motif imprimé sur la plaquette. L'actif TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 comprend également de nombreuses caractéristiques de sécurité telles qu'un modèle de déclenchement d'obturateur qui empêche l'exposition à long terme de la source lumineuse, l'augmentation de la structure interne du polystyrène ignifuge et l'utilisation d'un environnement contenant de l'azote pour un revêtement à résistance à pression variable. De plus, la mise en place de la plaquette et le déplacement de l'étage X-Y sont commandés par un équipement informatique à électronique de commande basse tension logé dans son armoire de commande. Ces caractéristiques permettent à TEL Mark 8 d'assurer un degré élevé de précision, une production plus propre et une contamination minimale des particules tant pendant le processus de fabrication que pendant l'utilisation finale. TEL MARK-8 Photoresist System est un outil essentiel pour la production de dispositifs électroniques très précis et fiables au niveau des transistors.